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Voir aussi: sputter deposition
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Traduction de "sputter" en français

pulvérisation
vaporisation
crépitement
pulvériser
avoir des ratés
par crépitement
pulvérisé
pulvérisées

Suggestions

131
disclosed is a magnetron sputter cathode comprising
la présente invention porte sur une cathode de pulvérisation au magnétron qui comprend
Rotary lithium sputter targets are also described.
Elle concerne également des cibles de pulvérisation de lithium rotatives.
control of erosion profile on a dielectric rf sputter target
maîtrise de profil d'érosion sur une cible de pulvérisation rf diélectrique
substrate support in a reactive sputter chamber
support de substrat dans une chambre de pulvérisation réactive
The invention also includes physical vapor deposition targets, and magnetron plasma sputter reactor assemblies.
L'invention concerne en outre des cibles de métallisation physique sous vide ainsi que des ensembles de réacteurs de pulvérisation de plasma magnétron.
The die cast sputter target can be used to form layers in microelectronic devices.
La cible de pulvérisation coulée sous pression peut être utilisée pour former des couches dans des dispositifs micro-électroniques.
inductively coupled plasma sputter chamber with conductive material sputtering capabilities
chambre de pulvérisation plasmique à couplage inductif ayant des capacités de pulvérisation de matières conductrices
Ruthenium alloy magnetic media and sputter targets
Moyens magnétiques en alliage de ruthenium et cibles de pulvérisation
apparatus and method for reducing differential sputter rates
appareil et procédé permettant de réduire des taux de pulvérisation différentiels
hollow cathode sputter ion source for generating high-intensity ion beams
source ionique de pulvérisation à cathode creuse permettant d'obtenir des faisceaux ioniques d'intensité élevée
gas manifold for an off-axis sputter apparatus
collecteur de gaz pour un appareil de pulvérisation hors axe
insulating ceramic coated metallic part in a plasma sputter reactor
isolant métallique à revêtement céramique dans un réacteur de pulvérisation à plasma
use of variable impedance having rotating core to control coil sputter distribution
utilisation d'une impédance variable à noyau rotatif pour régler une répartition de pulvérisation de bobine
sputter cathode for application of radioactive material
cathode de pulvérisation pour application d'un matériau radioactif
Target configurations used to compensate for non-uniformities in sputter plasma are described.
Elle concerne des configurations de cible utilisées pour compenser les inégalités dans le plasma de pulvérisation.
A sputter coating system (10) employing a vacuum chamber (1).
L'invention concerne un système de pulvérisation (10) pour réaliser un revêtement, utilisant une chambre à vide (1).
The aim of the invention is to create a relatively large magnetron sputter cathode.
L'objet de la présente invention est la réalisation d'une cathode de pulvérisation magnétron relativement large.
The invention relates to a vacuum sputter method for producing dielectric layers.
L'invention concerne un procédé de pulvérisation à vide destiné à la fabrication de couches diélectriques.
This then permits close control of the gas flow rate and direction over each sputter target.
Ceci permet alors un réglage fin du débit gazeux et une orientation précise en direction de chaque cible de pulvérisation.
A sputter gun is provided in the embodiments contained herein.
La présente invention concerne un pistolet de pulvérisation.
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Mots fréquents: 1-300, 301-600, 601-900, Plus

Expressions courtes fréquentes: 1-400, 401-800, 801-1200, Plus

Expressions longues fréquentes: 1-400, 401-800, 801-1200, Plus

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