Vertaling van "post-CMP" in Engels
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Plus précisément, l'invention concerne un procédé de nettoyage post-CMP ou post-gravure.
Specifically, the present invention relates to a method of post-CMP or post-etch cleaning.
Les compositions chimiques de l'invention sont également utiles pour le nettoyage post-CMP de la plaquette elle-même.
The chemical compositions of the present invention are also useful for post-CMP cleaning of the wafer itself.
solutions de nettoyage incluant des conservateurs, pour procédés de nettoyage post-cmp
cleaning solutions including preservative compounds for post cmp cleaning processes
SOLUTIONS ALCALINES AMÉLIORÉES POUR PROCÉDÉS DE NETTOYAGE POST-CMP
IMPROVED ALKALINE SOLUTIONS FOR POST CMP CLEANING PROCESSES
les extensions diminuent les forces d'attraction agissant sur le corps central, ce qui permet d'éliminer les particules abrasives de la plaquette à semi-conducteurs au cours d'un procédé de nettoyage post-CMP.
the extensions reduce attractive forces acting on the central body allowing the abrasive particles to be removed from the semiconductor wafer during a post-CMP cleaning process.
une formule de rinçage post-CMP à utiliser dans un traitement de semi-conducteur; elle se caractérise en ce que la formule est exempte ou presque complètement exempte d'espèce triazole et elle contient
a post-CMP rinse formulation for use in semiconductor processing, characterised in that the formulation is free or essentially free of triazole species and contains
Une brosse destinée au nettoyage de substrats, tel que le post-polissage chimico-mécanique (post-CMP) des substrats, utilise des nodules asymétriques ou des nodules ayant un espacement, une taille, des caractéristiques, des densités variables pour permettre un nettoyage amélioré de substrats.
A brush for cleaning of substrates such as for post chemical mechanical polishing (post-CMP) of the substrates, utilizes asymmetrical nodules or nodules with varying spacing, size, features, densities to provide an improved cleaning of substrates.
composition d'élimination de résidu post-cmp à faible ph et procédé d'utilisation
low ph post-cmp residue removal composition and method of use
nettoyage post-cmp de la surface de tranches de semi-conducteurs par une combinaison de techniques aqueuses et cryogéniques
post-cmp cleaning of semiconductor wafer surfaces using a combination of aqueous and cryogenic cleaning techniques
ELIMINATION POST-CMP À L'AIDE DE COMPOSITIONS ET PROCÉDÉ D'UTILISATION
POST-CMP REMOVAL USING COMPOSITIONS AND METHOD OF USE
NOUVEAUX ANTIOXYDANTS POUR FORMULATION DE NETTOYAGE POST-CMP
NEW ANTIOXIDANTS FOR POST-CMP CLEANING FORMULATIONS
COMPOSITION D'ELIMINATION DE RESIDU POST-CMP A FAIBLE pH ET PROCEDE D'UTILISATION
LOW PH POST-CMP RESIDUE REMOVAL COMPOSITION AND METHOD OF USE
SOLUTIONS DE NETTOYAGE INCLUANT DES CONSERVATEURS, POUR PROCEDES DE NETTOYAGE POST-CMP
CLEANING SOLUTIONS INCLUDING PRESERVATIVE COMPOUNDS FOR POST CMP CLEANING PROCESSES
