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pattern-forming method using same
Exemple pentru "pattern-forming method using same"
POLYMERIZABLE FLUORINE-CONTAINING SULFONATE, FLUORINE-CONTAINING SULFONATE RESIN, RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING SAME
重合性含フッ素スルホン酸塩類、含フッ素スルホン酸塩樹脂、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
FLUORINE-CONTAINING SULFONATES HAVING POLYMERIZABLE ANIONS AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR, FLUORINE-CONTAINING RESINS, RESIST COMPOSITIONS, AND PATTERN-FORMING METHOD USING SAME
重合性アニオンを有する含フッ素スルホン酸塩類とその製造方法、含フッ素樹脂、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
The present invention provides an active ray-sensitive or radioactive ray-sensitive resin composition, a pattern-forming method using same, a resist film, a method for manufacturing an electronic device, and an electronic device.
露光余裕度（ＥＬ）及びラインウィドゥスラフネス（ＬＷＲ）に優れ、更に段差基板上でのスペースパターンの抜け性に優れ、特に有機溶剤現像によるネガ型のパターン形成方法において好適であり、なかでもＫｒＦ露光に好適な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いるパターン形成方法、レジスト膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
ACTIVE LIGHT-SENSITIVE, OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD USING SAME
露光ラチチュード及びラインウィズスラフネスなどのパターンラフネスに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
Alte rezultate
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法
PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
光重合性組成物並びにそれを用いたパターン形成方法
PHOTOMASK AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
フォトマスク及びそれを用いたパターン形成方法
RESIST PATTERN COATING AGENT AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME
BARRIER FILM FORMING MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
バリア膜形成用材料及びそれを用いたパターン形成方法
COMPOSITION FOR FORMING FINE RESIST PATTERN AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
微細レジストパターン形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法
COMPOSITION FOR FORMING UPPER LAYER FILM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME
［課題］極紫外線露光によるパターン形成方法において、ラフネスやパターン形状に優れたパターンを形成することができる上層膜形成用組成物とそれを用いたパターン形成方法の提供。
NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME
DOUBLE-LAYERED FILM AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME, RESIN COMPOSITION FOR FORMING LOWER LAYER OF DOUBLE-LAYERED FILM, AND POSITIVE RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMING UPPER LAYER OF DOUBLE-LAYERED FILM
２層積層膜およびこれを用いたパターン形成方法、並びに２層積層膜の下層形成用樹脂組成物および上層形成用ポジ型感放射線性樹脂組成物
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