All of them can be directly deposited on the substrate 14 or deposited using the method of reactive sputtering.
Все они могут непосредственно осаждаться на подложку 14 или осаждаться с помощью метода реактивного распыления.
It is desirable that the material with high refractive index contained synthesized bismuth oxide deposited on the substrate material reactive sputtering and having an atomic ratio of oxygen to bismuth from 1.7 to 2.5.
Желательно, чтобы материал с высоким показателем преломления содержал синтезированный оксид висмута, осажденный на материал подложки при реактивном распылении и имеющий атомное отношение кислорода к висмуту от 1,7 до 2,5.
Conversely, the DSO for reactive sputtering TiO2usually 0.1 nm cm*2/j.
И напротив, ДСО для реактивного распыления TiO2 обычно 0.1 нм см*2/j.
Alte rezultate
Study of the composition and structure of titanium dioxide based coatings deposited by the method of reactive magnetic sputtering
Исследование состава и структуры покрытий на основе диоксида титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления
The goal of this work was to carry out experimental studies to solve the problems associated with the effect of different parameters of sputtering on the structure, phase and elemental composition of titanium dioxide coatings deposited by the method of reactive magnetron sputtering.
Целью настоящей работы было проведение экспериментальных исследований для решения вопросов, связанных с влиянием тех или иных параметров напыления на структуру, фазовый и элементный состав покрытий диоксида титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления.
It is shown that a combination of reactive ion-plasma sputtering and pulsed electron beam deposition methods allows the formation of a thin-film ZnS-ZnO heterostructure with few structural defects.
Показано, что совместное применение методов реактивного ионно-плазменного напыления и импульсного электронно-лучевого напыления позволяет сформировать тонкопленочную гетероструктуру ZnS-ZnО с малыми структурными дефектами.
Deposition of oxide and nitride coatings (including high-k) of thickness under 2 microns by reactive RF sputtering.
Осаждение оксидных и нитридных покрытий (в том числе high-k) толщиной до 2 мкм методом реактивного высокочастотного напыления.
There are three major PVD processes for coating tools: evaporating, sputtering and reactive ion plating, differing primarily in the way the reacting metal is vaporized.
Существует три основных процесса PVD для инструментов: испарение, вакуумное напыление и реактивное ионное покрытие, отличающееся главным образом тем, как испаряется реагирующий металл.
Hard material coatings and decorative coatings based on aluminium, titanium, zirconium, chromium and ceramics are applied (sputtered) to tools, components and other products using the reactive magnetron sputtering process.
Покрытие на основе твердого материала и декоративное покрытие на основе алюминия, титана, циркония, хрома и керамики применяются (распыляются) к инструментам, комплектующим и другой продукции с использованием процесса реактивного магнетронного напыления.
The Co3O4/Al films have been obtained by sequential reactive magnetron sputtering of a metallic cobalt target in a medium consisting of the Ar + O2 gas mixture and magnetron sputtering of an aluminum target in the pure argon atmosphere.
Пленки Co3O4/Al получены последовательным реактивным магнетронным распылением мишени металлического кобальта в среде, состоящей из смеси газов Ar+Показать полностьюO2 и магнетронным распылением алюминиевой мишени в среде чистого аргона.
The use of ion-beam and magnetron sputtering allows to conduct reactive and non-reactive processes in any sequence;
Применение ионно-лучевого и магнетронного распыления позволяет проводить реактивные и нереактивные процессы в любой последовательности;
An AC magnetron has been elaborated for implementation of highly productive processes of application of dielectric coatings (oxides, nitrides, carbides, etc) by sputtering the current conducting materials in the reactive medium.
АС магнетрон разработан для реализации высоко-производительных процессов нанесения диэлектрических покрытий (оксидов, нитридов, карбидов и др.) распылением в реактивной среде проводящих материалов.
In Fig. 8 shows a graphical correlation rate reactive deposition of synthesized bismuth oxide, BiOxmethod of sputtering, the atomic ratios of oxygen to bismuth in the oxide and the partial pressure of oxygen in a vacuum chamber where the deposition by sputtering technique.
8 показана графическая корреляция скорости реактивного осаждения синтезированного оксида висмута, BiOx, методом распыления, атомного отношения кислорода к висмуту в оксиде и парциального давления кислорода в вакуумной камере, в которой проводится осаждение методом распыления.