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A microstructure array according
Translation of "A microstructure array according" in German
Mikrostrukturanordnung nach
A microstructure array according to claim 21, wherein the second plated layer contains phosphorus.
Mikrostrukturanordnung nach Anspruch 21, wobei die zweite plattierte Schicht Phosphor enthält.
A microstructure array according to any one of claims 10 to 13, wherein the microstructure is a semispherical microstructure.
Mikrostrukturanordnung nach einem der Ansprüche 10 bis 13, wobei die Mikrostruktur eine Halbkugelmikrostruktur ist.
A microstructure array according to claim 21 or 22, further comprising a third plated layer formed on the second plated layer by electroplating.
Mikrostrukturanordnung nach Anspruch 21 oder 22, ferner mit einer auf der zweiten plattierten Schicht durch einen Elektroplattierungsvorgang ausgebildeten dritten plattierten Schicht.
A microstructure array according to any one of claims 21 to 25, wherein the opening has a circular shape and the microstructure is a semispherical microstructure.
Mikrostrukturanordnung nach einem der Ansprüche 21 bis 25, wobei die Öffnung eine kreisförmige Form aufweist, und die Mikrostruktur eine halbkugelförmige Mikrostruktur ist.
A microstructure array according to any one of claims 21 to 36, wherein the microstructure array is a mold for forming a microlens array, a lenticular lens or a flyeye lens.
Mikrostrukturanordnung nach einem der Ansprüche 21 bis 36, wobei die Mikrostrukturanordnung eine Gussform zur Ausbildung einer Mikrolinsenanordnung, einer linsenförmigen Linse oder einer Fliegenaugenlinse ist.
A microstructure array according to claim 10, wherein a height of the second plated layer (6) formed on the first plated or electrodeposited layer (5) above a central portion of the layer parts is in a range from 1 µm to 100 µm.
Mikrostrukturanordnung nach Anspruch 10, wobei eine Höhe der auf der ersten plattierten oder elektroabgeschiedenen Schicht (5) ausgebildeten zweiten plattierten Schicht (6) über einem zentralen Abschnitt der Schichtteile in einem Bereich von 1 µm bis 100 µm liegt.
A microstructure array according to any one of claims 10 to 12, wherein a thickness of the second plated layer (6) is equal to or larger than a spacing between the first plated layer (5) and the electrically-conductive portion (2).
Mikrostrukturanordnung nach einem der Ansprüche 10 bis 12, wobei eine Dicke der zweiten plattierten Schicht (6) gleich oder größer als ein Abstand zwischen der ersten plattierten Schicht (5) und dem elektrisch leitenden Abschnitt (2) ist.
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