Method, an alignment mark and use of a hard mask material
Formation of alignment mark and structure covering the same
Make suitable alignment mark (A) between pump backplate and body.
Eine geeignete Ausrichtmarkierung (A) zwischen Pumpenmontageplatte und Karosserie anbringen.
Make the alignment marks (E) to the rubber dam with the alignment mark (C) position on each side.
Am Gummiwulst auf beiden Seiten eine Ausrichtmarkierung (E) an der Position der Ausrichtmarkierung (C) anlegen.
Method and apparatus for detecting alignment mark of semiconductor device.
Verfahren und Gerät zur Wahrnehmung einer Ausrichtungsmarke auf einer Halbleiter-Vorrichtung.
Semiconductor device comprising an alignment mark, method of manufacturing the same and aligning method.
Halbleiterelement mit einer Ausrichtungsmarke, Verfahren zur Herstellung derselben und Ausrichtungsverfahren.
Substrate provided with an alignment mark in a substantially transparent process layer
Substrat mit Ausrichtungsmarke in einer wesentlich transparenten Prozessschicht
Semiconductor wafer comprising an epitaxial layer and an alignment mark
Halbleiterscheibe mit einer Epitaxialschicht und eine Ausrichtungsmarke
The method of claim 12, wherein said alignment mark has a trapezoidal shape.
Verfahren nach Anspruch 12, bei dem die Ausrichtungsmarkierung trapezförmig ist.
A method as claimed in any one of the preceding claims comprising using an image recognition technique to detect the alignment dot relative to the alignment mark.
Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, umfassend das Verwenden einer Bilderkennungstechnik, um den Ausrichtungspunkt relativ zur Ausrichtungsmarke zu erkennen.
Thus, to create an angle, the alignment mark is aligned with an indicator mark and a line is drawn along the straight guide edge.
Um einen Winkel zu erzeugen, wird die Ausrichtungsmarkierung mit einer Anzeigemarkierung in Ausrichtung gebracht, und entlang der geraden Führungskante wird eine Linie gezogen.
The method according to claim 1 further including: providing each one of the sub field arrays having an alignment mark.
Verfahren nach Anspruch 1, das weiterhin folgendes beinhaltet: Bereitstellen jedes einzelnen der Teilfeldarrays mit einer Ausrichtungsmarke.
Method of manufacturing a photolithography pattern and method of determining the position of an image of an alignment mark
Verfahren zur Herstellung eines photolithographischen Musters und Verfahren zur Bestimmung der Position eines Bildes einer Ausrichtungsmarke