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etch depth
Translation of "etch depth" in German
Ätztiefe
Apparatus and method for controlling etch depth during plasma alternating etching of semiconductor substrates
Vorrichtung und Verfahren zum Kontrollieren der Ätztiefe während des abwechselnden Plasmaätzens von Halbleitersubstraten
A method as claimed in claim 1, wherein the holes are labeled according to corresponding etch depth.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Löcher gemäß der entsprechenden Ätztiefe gekennzeichnet werden.
The method of claim 7 wherein: said predetermined time interval is selected to optimize the etch depth per pair of said first and second radiation pulses.
Das Verfahren nach Anspruch 7, wobei: das vorher festgelegte Zeitintervall so gewählt wird, daß die Ätztiefe für jedes aus dem ersten und zweiten Strahlungsimpuls bestehende Paar optimiert wird.
Powerful smoothing at low etch depth
Starke Glättung bei geringer Ätztiefe
A method as claimed in claim 1, wherein the substrate is {100} oriented silicon and said etch depth is derived using the formula: where R 1/ R 2 is the ratio of etch rates in the respective crystal planes of the anisotropic etch.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Substrat Silicium mit {100}-Orientierung ist und die Ätztiefe unter Anwendung der folgenden Formel abgeleitet wird: wobei R 1/R 2 das Verhältnis der Ätzraten in den entsprechenden Kristallebenen der anisotropen Ätzung ist.
The design can be structured with tight tolerances in terms of linewidth and etch depth across the entire plate.
Das Design kann in Bezug auf Linienbreite und Ätztiefe ├╝ber das gesamte Substrat mit engen Toleranzen realisiert werden.
Because the dimensions involved in this process are relatively large by silicon processing standards, the usual precision for linewidth control, etch depth, sidewall geometry, undercut, etc. is not required.
Da die Abmessungen bei diesem Prozeß im Vergleich zu Siliziumbearbeitungsstandards relativ groß sind, ist die übliche Präzision für die Einhaltung der Linienbreite, die Ätztiefe, die Seitenwandgeometrie, die Hinterschneidung usw. nicht erforderlich.
Anisotropic etching of Si using SF6+O2 and thermally grown SiO2 as etch mask, etch rate 1 µm/min, etch depth of trenchs<20 µm, selectivity RSi/RSiO2>130, anisotropy 0.97.
Anisotropes Ätzen von Si mit SF6+O2 und thermisch gewachsenem SiO2 als Ätzmaske, Ätzrate 1 µm/min, Ätztiefe bis 20 µm,
APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING ETCH DEPTH
APPARAT UND METHODE ZUR ÜBERWACHUNG DER ÄTZTIEFE
INTEGRATED CIRCUIT INDUCTOR STRUCTURE AND NON-DESTRUCTIVE ETCH DEPTH MEASUREMENT
INDUKTIVITÄTSSTRUKTUR IN INTEGRIERTER SCHALTUNG UND ZERSTÖRUNGSFREIE ÄTZTIEFENMESSUNG
The Dimension AFP is the world's only fab-based metrology tool specifically designed for both CMP profiling and etch depth metrology for current and advanced technology nodes.
Das Dimension AFP ist das weltweit einzige Fab-basierte Messgerät, das speziell sowohl für CMP-Profiling als auch für Ätztiefenmessung für aktuelle und fortschrittliche Technologieknoten entwickelt wurde.
Synonyms and analogies of "etch depth" in English
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