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Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem der Laserstrahl eine oder mehrere Schichten der unbearbeiteten Lichtmusterschablone abträgt, um das gewünschte Muster zu erzeugen.
A method according to any one of the preceding claims, wherein the laser beam ablates one or more layers of the blank gobo so as to form the desired pattern.
Verfahren nach Anspruch 20 oder 21, bei dem die unbearbeitete Lichtmusterschablone eine Mehrzahl weiterer Maskenschichten aufweist.
A method according to claim 20 or 21, wherein the blank gobo includes a plurality of further masking layers.
Verfahren nach Anspruch 16, bei dem die unbearbeitete Lichtmusterschablone (70) weiterhin eins Schicht aus dichroitischem Filtermaterial (62) aufweist, die zwischen dem transparenten Substrat (12) und der Maskenschicht (64, 66) angeordnet ist.
A method according to claim 16, wherein the blank gobo (70) further includes a layer of dichroic filter material (62) disposed between the transparent substrate (12) and the masking layer (64, 66).
Verfahren nach Anspruch 20, bei dem die unbearbeitete Lichtmusterschablone (80) weiterhin eine dritte Maskenschicht (63, 68) aufweist, die auf einer Oberfläche des transparenten Substrats (12) aufgebracht ist, die der ersten Oberfläche (11) gegenüberliegt.
A method according to claim 20, wherein the blank gobo (80) further includes a third masking layer (63, 68) applied to a surface of said transparent substrate (12) opposite the first surface (11).
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, das das Herstellen der unbearbeiteten Lichtmusterschablone beinhaltet, indem eine oder mehrere Maskenschichten (14, 61, 62,202, 204) auf ein transparentes Substrat (12) aufgebracht werden.
A method according to any one of the preceding claims, including making the blank gobo by applying one or more masking layers (14, 61, 62,202, 204) to a transparent substrate (12).
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