Vertaling van "Maskenmuster" in Engels
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Ein konzeptionell einfaches Verfahren ist es, eine beschränkende Maske auf die Probe zu projizieren und das projizierte Maskenmuster in der gewünschten Weise zu bewegen.
A conceptually simple method is to project a constricting mask onto the sample and move the projected mask pattern in the desired fashion.
Das Bildmuster und das Maskenmuster können auf dem Substrat mit drucktechnischen Verfahren aufgebracht werden.
The image pattern and the mask pattern can be applied to the substrate by printing methods.
Verfahren zum Herstellen von Komplementärmasken, folgende Schritte umfassend: Erzeugen eines komplementären Maskenmusters entsprechend dem Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8; und Formen von komplementären Masken, die die Maskenmuster beinhalten.
A method of manufacturing complementary masks comprising the steps of: generating complementary mask patterns according to the method of any one of claims 1 to 8; and forming complementary masks embodying the mask patterns.
Belichtungsgerät zum Ausleuchten einer Vielzahl von Maskenmustern (10) unter Verwendung eines Geräts gemäß einem der Ansprüche 1 bis 9 und zum Belichten eines Substrat (13), um die Vielzahl der Maskenmuster zu durchleuchten.
An exposure apparatus for illuminating a plurality of mask patterns (10) using an apparatus according to any of claims 1 to 9 and for exposing a substrate (13) to light through said plurality of mask patterns.
Geben Sie ein Maskenmuster ein, um den Namen anzugeben, der zur Beschriftung des Ordners verwendet werden soll.
Type a Mask Pattern to indicate the name used to label the folder.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem jedes Maskenmuster auf einem dafür individuellen Substrat ausgebildet wird, um einen Satz Masken mit binärem Gewicht bereitzustellen.
A method according to any preceding claim, wherein each mask pattern is provided on a substrate individual thereto to provide a set of binary weighted masks.
Die Maskenregel zur Bestätigung des Objektattributformats und zur Sicherstellung des Attributs folgt dem Maskenmuster.
The mask rule to validate the object attribute format and to ensure the attribute follows the mask pattern.
Lichtemittierende Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, bei welcher das Maskenmuster, welches die fluoreszierende Substanz enthält, ein Punktmuster hat.
The semiconductor light emitting element according to claim 1 wherein the mask pattern containing said fluorescent substance has dot pattern.
Verfahren nach Anspruch 2, bei dem mindestens ein Maskenmuster nach jedem hindurchgeleiteten Impuls verschoben wird.
A method according to claim 2, wherein said at least one mask pattern is shifted after each pulse directed therethrough.
Verfahren nach Patentanspruch 1 oder 2, wobei das Maskenmuster ein Abdeckmittel aufweist, das entwickelt wurde.
A method according to claim 1 or claim 2, wherein the mask pattern comprises a resist having been developed.
Inspektionsverfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Maskenmuster ein einzelnes Muster (60) umfaßt.
The inspection method according to claim 1, characterized in that said mask pattern comprises a single pattern (60).
Verfahren nach irgendeinem vorhergehenden Anspruch, bei dem das Maskenmuster (22) durch ein photolithographisches Verfahren gebildet wird.
A method according to any one of the preceding claims, wherein said mask pattern (22) is formed by a photo-lithography method.
Bilddruckverfahren gemäß Anspruch 1, wobei jedes Maskenmuster, das bei dem zweiten Verteilungsschritt verwendet wird, ein Muster zum kontinuierlichen Bilden einer Vielzahl Punkte in einer Vorschubrichtung ist.
An image printing method as claimed in claim 1, wherein each mask pattern used for the second distributing step is a pattern for forming a plurality of dots continuously in a feeding direction.