Lässt Sie ein Bitmap zur Festlegung des Reliefmusters auswählen.
Legt die Höhe des Reliefmusters fest.
Verfahren nach einem vorangehenden Anspruch, bei dem der Behandlungsschritt die Ausbildung eines Reliefmusters durch selektives Komprimieren des Bereiches von aufgesprühtem Metall umfaßt.
A method according to any foregoing claim wherein the treating step comprises forming a relief pattern by the selective compression of the region of sprayed metal.
Elektronisches Teil, enthaltend eine Schicht des durch das Verfahren von Anspruch 9 gebildeten Reliefmusters.
An electronic part containing a layer of the relief pattern formed by the method of claim 9.
Verwendung eines Reliefmusters, gebildet durch das Verfahren nach Anspruch 13 als Oberflächenschutzfilm oder als isolierende Zwischenschicht.
Use of a relief pattern, formed by the method of claim 13, as a surface-protecting film or an interlayer insulating film.
Elektronisches Teil gemäß Anspruch 11, worin die Schicht des Reliefmusters ein Oberflächenschutzfilm oder ein Zwischenschichtisolationsfilm ist.
The electronic part of claim 11, wherein the layer of the relief pattern is a surface-protecting film or an interlayer insulating film.
Herstellungsverfahren eines Reliefmusters nach einem der Ansprüche 1 bis 3, mit Bilden der Bildmuster aus einem Material, das hoch optisch absorbierend ist, bevorzugt weiter mit Bilden der Bildmuster durch einen Thermoübertragungsrekorder (71, 72).
The relief pattern producing method according to one of claims 1 to 3, comprising forming said image patterns of a material that is highly optically absorptive, preferably further comprising forming said image patterns by a thermal transfer recorder (71, 72).
Ändert die Skalierung des Reliefmusters.
Adjusts the scale of the relief pattern.
Relative Größe des Reliefmusters.
Relative size of the relief pattern.
Relative Höhe des Reliefmusters.
Relative height of the relief pattern.
Das Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet , daß die optische Signalleitungseinrichtung (112) fotolithografisch auf einer der flachen Oberflächen als Teil des Reliefmusters ausgebildet ist.
The method according to Claim 7, characterised in that said optical signal conducting means (112) is formed photolithographically on one of said flat surfaces as a part of said relief pattern.
Furniture Verwendung für Möbel: Die Oberflächen werden nicht verzerrt. Sie können jedoch mithilfe eines Reliefmusters andere Oberflächeneffekte herstellen.
Furniture Surfaces are not warped, though you can still use the Relief Pattern for other surface effects.
VERFAHREN UND GERÄT ZUM BERÜHRUNGSLOSEN LESEN EINES RELIEFMUSTERS
METHOD AND APPARATUS FOR NON-CONTACT READING OF A RELIEF PATTERN
