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Source-

Vertaling van "Source-" in Frans

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régions de source
source/drain
Herstellungsverfahren von Kontakten zu Source- und Drainbereichen
Méthode de formation de contacts à des régions de source et drain
Elektrisch löschbare und programmierbare Nur-Lese-Speicher mit Source- und Drain-Bereichen entlang Seitenwänden einer Grabenstruktur
Mémoire morte électriquement effaçable et programmable comportant des régions de source et de drain le long des parois latérales d'une structure de tranchée
Speichervorrichtung nach Anspruch 1, in welcher die Halbleiteraktivschicht selbstjustierte Source- und Drain-Gebiete hat.
Dispositif de mémoire selon la revendication 1, dans lequel la couche active à semi-conducteur a des régions de source et de drain auto-alignées.
Verfahren nach Anspruch 2, bei welchem das Substrat vom P-Typ ist, der Source- und der Drain-Bereich mit Arsen dotiert sind und der Graben mit Phosphor dotiert wird.
Procédé selon la revendication 2, dans lequel le substrat est de type P, les régions de source et de drain sont dopées à l'arsenic et le caisson est dopé au phosphore.
Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, in welchem die gesamte Anzahl der Fenster niedriger als die gesamte Anzahl der Source- und Drain-Bereiche ist.
Un procédé selon la revendication 8 ou la revendication 9, dans lequel le nombre total des fenêtres est inférieur au nombre total des régions de source et de drain.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei der genannte Schritt des Bildens von Source- (212a) und Drain- (212b) Zonen den Schritt des Durchführens einer selektiven Implantation von Ionenspezies umfasst.
Processus selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel ladite étape de formation des régions de source (212a) et de drain (212b) comprend l'étape de formation d'un implant sélectif d'espèce ionique.
Methode zur Bildung von Metallsilizidschichten auf Source- und Draingebiete
Méthode pour former des couches de siliciure de métal sur des régions de source et drain
Bauelement nach Anspruch 4, bei dem die Gateanschlußabschnitte in anderen Zonen als den Source- oder Drainzonen der Transistoren angeordnet und breiter als die Gateelektroden sind.
Dispositif suivant la revendication 4, dans lequel les parties formant borne de grille sont formées dans des régions autres que les régions de source ou de drain des transistors et sont plus larges que les électrodes de grille.
Halbleiteranordnung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet , daß die freigelegten Halbleitergebiete mindestens Source-, Drain- und Gate-Gebiete aufweisen.
Dispositif selon la revendication 10, caractérisé en ce que les régions semiconductrices mises à découvert comportent au moins des régions de source, de drain et de grille.
Verfahren zur Herstellung eines MIS-Transistor-Bauelementes mit einem Gitter, welches über geringdotierte Teile der Source- und Drain-Gebiete herausragt
Procédé pour fabriquer un dispositif à transistors MIS ayant une grille débordant sur les portions des régions de source et de drain faiblement dopées
Verfahren zum Implantieren von selbstausrichtenden Source- und Draingebieten mit Hilfe einer einzigen Maske, zum Herstellen einer CMOS-Struktur.
Procédé à masque unique pour l'implantation des régions de source et de drain auto-alignées, afin de former une structure CMOS.
Arbeiten mit kostenlosen Open Source- und kommerziellen Repositorys.
Travailler avec des référentiels commerciaux et open source gratuits.
Manche Software anderer Hersteller ist unter Open Source- oder kostenlosen Lizenzen verfügbar.
Certains programmes tiers sont des logiciels libres ou disponibles avec des licences gratuites.
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