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A device manufacturing method
Vertaling van "A device manufacturing method" in Duits
Vorrichtungsherstellungsverfahren
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Verfahren zur Herstellung eines Bauteils
Verfahren zum Herstellen einer Vorrichtung
Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Vorrichtungsherstellverfahren
A device manufacturing method according to claim 7 comprising a step in which said mask is off-axis illuminated by said radiation system.
Vorrichtungsherstellungsverfahren nach Anspruch 7, das einen Schritt umfasst, in dem die Maske unter Abstand von der Achse durch das Bestrahlungssystem bestrahlt wird.
A device manufacturing method comprising a step of exposing a wafer to a pattern using an exposure unit defined in claim 1, and manufacturing a device from the exposed wafer.
Vorrichtungsherstellungsverfahren mit einem Schritt des Belichtens eines Wafers mit einem Muster unter Verwendung einer in Anspruch 1 definierten Belichtungseinheit und Herstellen einer Vorrichtung aus dem belichteten Wafer.
A device manufacturing method comprising the step of: projecting a device pattern of a mask or reticle onto a wafer using the projection exposure apparatus of any preceding claim; and fabricating a semiconductor device from the exposed wafer.
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, welches den Schritt aufweist: Projizieren einer Vorrichtungsstruktur einer Maske oder eines Retikels auf einen Wafer unter Verwendung des Projektionsbelichtungsgeräts gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, und Herstellen einer Halbleitervorrichtung aus dem belichteten Wafer.
A method of calibrating a lithographic apparatus, an alignment method, a computer program, a lithographic apparatus and a device manufacturing method
Verfahren zur Eichung eines lithographischen Geräts, Ausrichtverfahren, Komputerprogramm, lithographisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
A device manufacturing method according to any one of the preceding claims, wherein said calculation is performed to optimize the merit function for the most critical feature of the pattern to be projected.
Verfahren zur Herstellung eines Bauteils nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Berechnung durchgeführt wird, um die Gütefunktion für die kritischste Struktur des zu projizierenden Musters zu optimieren.
A device manufacturing method according to any one of the preceding claims, wherein said information on properties comprise a field map of aberration as a function of position in the image to be formed at said target portion.
Verfahren zur Herstellung eines Bauteils nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Informationen über Eigenschaften eine Aberrationsfeldkarte als eine Funktion der Position in dem bei dem Zielabschnitt zu formenden Bild aufweisen.
A device manufacturing method according to claim 1, 2 or 3, wherein said sensitivity coefficients comprise linear constants of proportionality between said properties and said lithographic errors.
Verfahren zur Herstellung eines Bauteils nach Anspruch 1, 2 oder 3, wobei die Sensitivitätskoeffizienten lineare Konstanten von Proportionalität zwischen den Eigenschaften und den lithographischen Fehlern umfassen.
A mask manufacturing method, a method for optical proximity correction, a device manufacturing method, a computer program and a computer readable storage medium
Maskenherstellungsverfahren, Verfahren zur optischen Naheffektkorrektur (OPC), Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, Computerprogramm und computerlesbares Speichermedium
A device manufacturing method, as well as a lithographic apparatus
Lithographisches Gerät sowie Methode zur Herstellung eines Elements
A device manufacturing method using a lithographic projection mask
Verfahren zur Herstellung eines Artikels unter Verwendung einer lithographischen Projektionsmaske
A device manufacturing method comprising a step of exposing a wafer by using a processing system as recited in claim 11.
Verfahren zum Herstellen einer Einrichtung, welches einen Schritt des Belichtens eines Wafers unter Anwendung eines in Anspruch 11 aufgeführten Bearbeitungssystems aufweist.
A device manufacturing method comprising exposing a substrate with a pattern by a method according to claim 26, developing the exposed substrate, and using at least a part of the developed substrate to make a device.
Vorrichtungsherstellverfahren, das ein Bestrahlen eines Substrats mit einem Muster durch ein Verfahren nach Anspruch 26, ein Entwickeln des bestrahlten Substrats, und ein Verwenden von zumindest einem Teil des entwickelten Substrats, um eine Vorrichtung herzustellen, aufweist.
A device manufacturing method comprising manufacturing a physical or virtual mask according to the method of claim 7 or 8 and using the mask to project an image of the desired target pattern into a substrate.
Verfahren zum Herstellen einer Vorrichtung, umfassend das Herstellen einer physikalischen oder einer virtuellen Maske gemäß dem Verfahren nach Anspruch 7 oder 8 sowie das Verwenden der Maske, um eine Abbildung des erwünschten Zielmusters auf ein Substrat zu projizieren.
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