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A pattern exposing method according
Vertaling van "A pattern exposing method according" in Duits
Belichtungsverfahren nach
A pattern exposing method according to claim 4, characterized in that said first and second parts of said first and second corresponding patterns have an oblong shape.
Belichtungsverfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der erste und der zweite Teil des ersten und des zweiten korrespondierenden Musters eine längliche Form haben.
A pattern exposing method according to claim 1 or 2, characterized in that said first corresponding pattern at least includes a first part which intersects perpendicularly to a second part of said second corresponding pattern on said substarte (5).
Belichtungsverfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das erste korrespondierende Muster zumindest einen ersten Teil enthält, der einen zweiten Teil des zweiten korrespondierenden Musters auf dem Substrats (5) in senkrechter Richtung schneidet.
A pattern exposing method according to any one of claims 1 to 6, characterized in that said steps (a) and (c) use a negative resist as said first and second resist layers (39, 40).
Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß in den Verfahrensschritten (a) und (c) als erste und zweite Resistschicht (39, 40) ein Negativresist verwendet wird.
A pattern exposing method according to claim 1, characterized in that said step (a) uses a negative resist as said resist layer.
Musterbelichtungsverfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass Schritt (a) ein Negativ-Resist als Abdeckschicht verwendet.
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