Vertaling van "APCVD system" in Duits
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Multiple injector heads can be used in series within a single APCVD system.
In einem einzigen APCVD System können mehrere Injektorköpfe in Reihe eingesetzt werden.
The wafers to be coated pass through the APCVD system in five parallel tracks.
Die zu beschichtenden Wafer durchlaufen die APCVD-Anlage in fünf parallelen Spuren.
The 5500 series APCVD system is well suited for low cost high-volume processing for all cell architectures requiring single or multi-layer dielectr...>more
Das APCVD System der Serie 5500 eignet sich hervorragend für die kostengünstige Hochv...>mehr
Structure of an APCVD system with roller drive: The wafers are transported on ceramic rollers through the plant and heated.
Aufbau einer APCVD-Anlage mit Rollenantrieb: Die Wafer werden auf Keramikrollen durch die Anlage transportiert und erhitzt.
Thermal systems from SCHMID have become famous for process stability, and the APCVD system continues this tradition.
Thermische Anlagen von SCHMID sind bekannt für ihre Prozessstabilität - das APCVD System setzt diese Tradition fort.
The production proven APCVD System from SCHMID includes multiple injector heads in series to maximize process throughput, uniformity, and flexibility while minimizing cost.
Das bewährte APCVD System von SCHMID umfasst mehrere Injektorköpfe in Reihe, die den Durchsatz, die Gleichmäßigkeit und die Flexibilität erhöhen - und gleichzeitig die Kosten senken.
APCVD System APCVD System The 5500 series APCVD system is well suited for low cost high-volume processing for all cell architectures requiring single or multi-layer dielectric thin film deposition.
APCVD-System APCVD-System Das APCVD System der Serie 5500 eignet sich hervorragend für die kostengünstige Hochvolumenbearbeitung aller Zellarchitekturen, die eine einlagige oder mehrlagige dielektrische Dünnschichtabscheidung benötigen.
The globally active SCHMID Group's APCVD system can apply boron and phosphorus diffusion sources in varying thicknesses and concentrations to provide flexibility in the design of modern emitters on all base materials.
Die Anlage der weltweit tätigen Unternehmensgruppe kann Bor- und Phosphor-Diffusionsquellen in unterschiedlicher Dicke und Konzentration aufbringen und bietet damit größmögliche Flexibiltät im Design moderner Emitter auf allen Basismaterialen.