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CVD-Verfahren unter Verwendung
The method of Claim 3, wherein the step a) includes forming the first insulating film by a CVD process using a reactive gas containing perfluorodecalin.
Verfahren nach Anspruch 3, wobei der Schritt a) das Ausbilden des ersten Isolationsfilms durch ein CVD-Verfahren unter Verwendung eines Reaktionsgases umfasst, welches Perfluorodecalin enthält.
Process according to Claim 6, in which the trench (5) is filled in a CVD process using a process gas containing O 3 and Si(OC 2 H 5) 4.
Verfahren nach Anspruch 6, bei dem die Füllung des Grabens (5) in einem CVD-Verfahren unter Verwendung eines O 3 und Si(OC 2 H 5) 4 enthaltenden Prozeßgases erfolgt.
Method of depositing insulating layer on underlaying layer using plasma-assisted CVD process using pulse-modulated plasma.
Verfahren zur Plasma-Dampfphasenabscheidung einer isolierenden Schicht auf einer Unterlage mit Puls-moduliertem Plasma.
The invention also concerns a composite consisting of a steel, cermet, hardmetal or ceramic substrate plus at least one metal or metal-alloy surface film applied by a plasma CVD process using metal halides as the reaction gas.
Die Erfindung betrifft ferner einen Verbundkörper aus einem Stahl-, Cermet-, Hartmetall- oder Keramik-Substratkörper und mindestens einer aus einem Metall oder einer Metallegierung bestehenden Oberflächenschicht, die mittels eines Plasma-CVD-Prozesses unter Verwendung von Metallhalogeniden als Reaktionsgas aufgebracht ist.
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