Vertaling van "The surface feature detection system" in Duits
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Oberflächenmerkmalserfassungssystem
The surface feature detection system of claim 1 wherein said system comprises an atomic force microscope.
Oberflächenmerkmalserfassungssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß besagtes System ein Atomkräftemikroskop enthält.
The surface feature detection system of claim 14 wherein the semiconductor material comprises a silicon crystal, the axis of the silicon crystal being oriented parallel to a longitudinal axis of the piezoresistive element.
Oberflächenmerkmalserfassungssystem nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das halbleitende Material einen Siliziumkristall umfaßt, wobei die -Achse des Siliziumkristalls parallel zu einer Längsachse des piezoresistiven Elements angeordnet ist.
The surface feature detection system of any preceding claim wherein the deflection detection means (124) has a sensitivity ranging between 0.1 and 100 Å.
Oberflächenmerkmalserfassungssystem nach irgendeinem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Verbiegungserfassungsmittel (124) eine Empfindlichkeit in einem Bereich zwischen 0,1 und 100 Å aufweist.
The surface feature detection system of any preceding claim wherein the microscope is capable of detecting features of the surface of the sample (110) down to an atomic scale.
Oberflächenmerkmalserfassungssystem nach irgendeinem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Mikroskop Merkmale der Oberfläche der Probe (110) bis herunter in eine atomare Skala erfassen kann.
The surface feature detection system of claim 5 wherein the atomic force microscope is designed such that the tip (104) is held a distance of 5 Å to 500 Å from the surface of the sample (110) while the surface is being scanned.
Oberflächenmerkmalserfassungssystem nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Atomkräftemikroskop so ausgestaltet ist, daß die Spitze (104) in einem Abstand von 5 Å bis 500 Å von der Oberfläche der Probe (110) während des Abtastens der Oberfläche gehalten wird.
The surface feature detection system of any preceding claim wherein the piezoresistive element (120) comprises a region of semiconductor material included within the cantilever arm (102).
Oberflächenmerkmalserfassungssystem nach irgendeinem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das piezoresistive Element (120) einen Bereich aus Halbleitermaterial, enthalten innerbalb des Auslegerarms (102), umfaßt.
The surface feature detection system of any of claims 1 to 4, wherein the cantilever arm comprises a tip (104) located near the free end of the cantilever arm (102).
Oberflächenmerkmalserfassungssystem nach irgendeinem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Auslegerarm eine Spitze (104) umfaßt, die nahe dem freien Ende des Auslegerarms (102) angeordnet ist.
The surface feature detection system of any preceding claim wherein the cantilever arm (102) has a mechanical resonant frequency greater than 10 KHz.
Oberflächenmerkmalserfassungssystem nach irgendeinem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Auslegerarm (102) eine mechanische Resonanzfrequenz von mehr als 10 kHz aufweist.
The surface feature detection system of claim 11 wherein the region of semiconductor material comprises P-type material.
Oberflächenmerkmalserfassungssystem nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Bereich aus halbleitendem Material Material des P-typs umfaßt.
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