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ein Trockenätzverfahren
Trockenätzprozess
Process of claim 9 further comprising etching the substrate by a dry etching process using the pattern of the layer of said radiation-sensitive negative resist composition as the mask.
Verfahren gemäß Anspruch 9, das ferner das Ätzen des Substrats durch ein Trockenätzverfahren unter Verwendung des Musters aus der Schicht aus dem strahlungsempfindlichen Negativ-Fotolackpräparat als Maske umfaßt.
RIE Principle and app lications The RIE process (reactive ion etching) is a dry etching process used in electronic and microelectronic manufacturing.
Der RIE-Prozeß (Reactive Ion Etching) ist ein Trockenätzverfahren, welches vor allem in der Elektronik- und Mikroelektronikfertigung zur schnellen Oberflächenreinigung bzw. -aktivierung, zur Veraschung von Fotolack oder zur Strukturierung von Schaltungen auf Halbleiterwafern eingesetzt wird.
The method according to one or more of Claims 20 through 30, characterized in that the passivation layer comprises an organic material, which is completely removed from the surface of the electrically conductive layer using a dry etching process after the isotropic etching.
Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 20 bis 30, dadurch gekennzeichnet, daß die Passivierungsschicht aus einem organischen Material besteht, welches nach dem isotropen Ätzen vollständig von der Oberfläche der elektrisch leitfähigen Schicht mittels Trockenätzprozess entfernt wird.
A dry etching process, characterized in that dry etching is conducted by using a gaseous composition as claimed in any one of claims 1 to 7.
Trockenätzprozess, dadurch gekennzeichnet, dass das Trockenätzen unter Verwendung einer gasförmigen Zusammensetzung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7 durchgeführt wird.
The process of claim 15 further comprising etching the substrate by a dry etching process using the pattern of the layer of said radiation-sensitive negative resist composition as the mask.
Das Verfahren von Anspruch 15, das außerdem die Ätzung der Substrate durch ein trockenes Ätzungsverfahren, wobei das Muster der Schicht der strahlungsempfindlichen negativ resistenten Zusammensetzung als Maske benutzt wird.
The top resist is developed and afterwards the pattern is transferred into the germanium layer by a dry etching process.
Danach wird die obenliegende PMMA-Schicht entwickelt und die Lackstruktur durch einen Ätzprozess in die Germaniumschicht und dann in das Copolymer übertragen.
A method as claimed in Claim 1, characterised in that the etching of the substrate (2) to form an electrode structure is effected by a dry etching process.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Ätzen des Substrats (2) zur Bildung einer Elektrodenstruktur durch einen Trockenätzungsprozeß bewirkt wird.
The invention additionally relates to a method during which an electrode layer is firstly structured by means of a dry etching process.
Erläutert wird auch ein Verfahren, bei dem eine Elektrodenschicht zunächst mit einem Trockenätzverfahren strukturiert wird.
The method of any of claims 10 to 13, wherein the step (d) is accomplished by performing a dry etching process on the top of the transparent substrate.
Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 13, worin Schritt (d) durch Durchführen eines Trockenätzprozesses auf der Oberseite des transparenten Substrats vorgenommen wird.
Reactive Ion Etching (RIE) is a dry etching process that combines chemical and physical processes: The impact of ions in a sputtering...
Das reaktive Ionenätzen (Reactive Ion Etching - RIE) ist ein Trockenätzverfahren, das chemische und physikalische Prozesse kombiniert... Zu den funktionalen Schichten
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