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nach CMP
nach dem CMP-Prozess
Barrier film deposition over metal for reduction in metal dishing after CMP
Abscheidung einer Barriereschicht über einem Metall zur Reduktion von Muldenbildung im Metall nach CMP
CHEMICAL SOLUTIONS FOR REMOVING METAL-COMPOUND CONTAMINANTS FROM WAFERS AFTER CMP AND THE METHOD OF WAFER CLEANING
CHEMISCHE LÖSUNGEN ZUR ENTFERNUNG VON METALLVERBINDUNG-KONTAMINATION AUF SCHEIBEN NACH CMP UND VERFAHREN ZUR REINIGUNG VON SCHEIBEN
A typical CMP system also involves a pad conditioning tool as well as a tool for the wafer cleaning after CMP.
Ein typisches CMP-System enthält außerdem eine Poliertuchregenerierung sowie eine Einheit zur Reinigung des Wafers nach dem CMP-Prozess.
The detergent composition according to Claim 1, which is used for cleaning a semiconductor substrate or a semiconductor device after CMP step.
Reinigungszusammensetzung nach Anspruch 1, die zum Reinigen eines Halbleitersubstrates oder einer Halbleitervorrichtung nach einem CMP-Schritt verwendet wird.
The post-CMP washing liquid composition according to any one of Claims 1 to 5, wherein it is used for a substrate having a structure in which Cu is in contact with a different type of metal, the substrate having Cu wiring after CMP.
Zusammensetzung für eine Reinigungsflüssigkeit zur Post-CMP-Anwendung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, welche bei einem Substrat angewendet wird, das eine Struktur aufweist, in der Cu mit einem anderen Metall in Kontakt ist, wobei das Substrat nach dem CMP-Prozess eine Cu-Verdrahtung aufweist.
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