Vertaling van "and second diffraction gratings" in Duits
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und das zweite Beugungsgitter
und zweite Beugungsgitter
A diffraction optical element according to claim 1, wherein the first and second diffraction gratings (6, 7) are separated by an air layer.
Optisches Beugungselement gemäß Anspruch 1, wobei das erste und das zweite Beugungsgitter (6, 7) durch eine Luftlage getrennt sind.
A distributed reflector semiconductor laser according to claim 4, characterized by further comprising two sets of independently arranged comb-shaped electrodes (9c, 9d, 9e, 9f) in said inactive regions in which said first and second diffraction gratings (10a, 10b) are present.
Halbleiterlaser mit Verteiltem-Reflektor nach Anspruch 4, gekennzeichnet durch zwei Sätze unabhängig angeordneter kammförmiger Elektroden (9c, 9d, 9e, 9f) in den inaktiven Bereichen, in denen das erste und das zweite Beugungsgitter (10a, 10b) vorhanden ist.
A diffraction optical element according to claim 1 or claim 2, wherein the first and second diffraction gratings (6, 7) are secured relative to each other via a non-grating area (13) of the diffraction optical element (1).
Optisches Beugungselement gemäß Anspruch 1 oder Anspruch 2, wobei das erste und das zweite Beugungsgitter (6, 7) relativ zueinander über einen Nichtgitterbereich (13) des optischen Beugungselementes (1) gesichert sind.
The invention relates to an optically variable element having first and second diffraction gratings, which are high-frequency diffraction gratings and thus are reflective into the zeroth order of diffraction.
Ein optisch variables Element weist erste und zweite Beugungsgitter auf, die hochfrequent sind und daher in die Nullte Beugungsordnung reflektierend wirken.
A system according to claim 5, wherein the first and second diffraction gratings are formed with a mutual deviation in grating phase along the array direction.
System nach Anspruch 5, bei dem das erste und zweite Beugungsgitter gebildet ist mit einer wechselweisen Abweichung in der Gitterphase längs der Anordnungsrichtung.
The optical encoder according to claim 2 or 3, characterized in that said first and second diffraction gratings (3,4) are connected on a circle to form a cylindrical diffraction grating.
Optische Kodiervorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß das erste und zweite Beugungsgitter (3,4) zur Ausbildung eines zylindrischen Beugungsgitters zu einem Kreis verbunden sind.
A magneto-optical head system, according to claim 1, 2, or 3, wherein said first and second diffraction gratings are formed on first and second surfaces of a substrate (208,408) respectively.
System für magneto-optischen Kopf nach Anspruch 1, 2 oder 3, wobei das erste bzw. das zweite Beugungsgitter auf der ersten bzw. der zweiten Oberfläche eines Substrats (208,408) ausgebildet sind.
Device according to Claim 10, characterized in that the first and second diffraction gratings each possess a relief modulation of at least two levels, and preferably sixteen levels.
Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die ersten und zweiten Beugungsgitter jeweils stereoskopische Modulation mit mindestens zwei Stufen, und vorzugsweise sechzehn Stufen besitzen.
A photomask as claimed in Claim 1 or 2 wherein the grating surfaces (3') of said first and second diffraction gratings (2; 4) are serrate in cross section.
Photomaske gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei die Querschnitte der Gitteroberflächen (3') des ersten und zweiten Beugungsgitters (2; 4) gezackt sind.
A method according to Claim 6 or Claim 7 characterised in that said first and second diffraction gratings (14a,14b) are disposed with their grating lines perpendicular to one another in a plane.
Ein Verfahren nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten und zweiten Beugungsgitter (14a, 14b) mit ihren Gitterlinien senkrecht zueinander in einer Ebene angeordnet sind.
A semiconductor laser array according to claim 14, characterized in that first and second diffraction gratings are provided in said first and second laser devices, respectively, said first and second diffraction gratings having different pitches from each other.
Regelmäßige Halbleiterlaseranordnung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß ein erstes und ein zweites Beugungsgitter in der ersten bzw. der zweiten Laservorrichtung bereitgestellt sind, wobei das erste und das zweite Beugungsgitter voneinander verschiedene Gitterkonstanten aufweisen.
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