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and the second pattern
Vertaling van "and the second pattern" in Duits
und das zweite Muster
An electronic apparatus as claimed in any preceding claim, wherein the first conductive pattern comprises a switch pattern for performing a switch function, and the second pattern comprises a ground pattern.
Elektronische Einrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei der das erste leitende Muster ein Schaltmuster zum Durchführen einer Schaltfunktion umfaßt und das zweite Muster ein Massemuster umfaßt.
A method according to claim 1, wherein first pattern is projected while scanning said first pattern in a scan direction and the second pattern is subsequently projected while scanning said second pattern in a direction opposite to said scan direction.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei das erste Muster projiziert wird, während das erste Muster in einer Abtastrichtung abgetastet wird und das zweite Muster danach projiziert wird, während das zweite Muster in einer Richtung entgegen der Abtastrichtung abgetastet wird.
An optical disk according to claim 2, wherein the first pattern is a recording mark formed by changing a reflection characteristic of the recording surface of the optical disk (1a), and the second pattern is a space on the recording surface (1a).
Optische Platte gemäß Anspruch 2, wobei das erste Muster eine Aufzeichnungsmarke ist, die durch Ändern einer Reflektionskennlinie der Aufzeichnungsoberfläche der optischen Platte (1a) ausgebildet ist, und das zweite Muster eine Leerstelle an der Aufzeichnungsoberfläche (1a) ist.
The method according to any one of the previous claims, wherein the first pattern (10) is formed with a first colour and the second pattern (20) is formed with a second colour for enhancing detection of any misalignment.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das erste Muster (10) mit einer ersten Farbe und das zweite Muster (20) mit einer zweiten Farbe gebildet wird, um die Erkennung jeglicher Fehljustierungen zu verbessern.
A framing aid as claimed in claim 1, wherein the first pattern (14) and the second pattern (24) are superimposed on the target object plane.
Eine Rahmenbildungshilfe gemäß Anspruch 1, bei der das erste Muster (14) und das zweite Muster (24) auf der Zielobjektebene übereinander liegen.
A process according to Claim 8, characterised in that the first pattern represents an unknown individual word and the second pattern represents a reference word and that w is a function of the quality of the individual word analysis.
Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das erste Muster ein unbekanntes Einzelwort und das zweite Muster ein Referenzwort darstellt und daß w von der Güte der Einzelwortzerlegung abhängt.
A device, comprising: the partition-wall structure according to one of Claims 1 to 4; the first pattern placed in the first concave portion (55) and the second pattern placed in the second concave portion (56).
Eine Vorrichtung, umfassend: die Trennwandstruktur nach einem der Ansprüche 1 bis 4; wobei das erste Muster in dem ersten konkaven Abschnitt (55) und das zweite Muster in dem zweiten konkaven Abschnitt (56) angeordnet ist.
A wire bonding device as claimed in Claim 4, wherein the first pattern is that of a bonding pad and the second pattern is that of an inner lead.
Drahtverbindungsvorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das erste Muster das eines Verbindungskissens und das zweite Muster das einer inneren Zuführung ist.
The device according to Claim 6, wherein the first pattern is a source wiring and the second pattern is a source electrode.
Die Vorrichtung nach Anspruch 6, wobei das erste Muster eine Quellenverdrahtung und das zweite Muster einer Quellenelektrode ist.
A position measuring apparatus according to claim 13, wherein the modulation of the first pattern and the second pattern is carried out by a spatial modulation in which the line width is varied.
Positionsmessvorrichtung gemäß Anspruch 13, wobei die Modulation des ersten Musters und des zweiten Musters ausgeführt wird durch eine räumliche Modulation, bei welcher die Linienbreite variiert ist.
The pattern recognition system of claim 22 wherein the decoder identifies patterns in the test signal by applying the features of the cleaned test values to the pattern recognition model and the second pattern recognition model.
Mustererkennungssystem nach Anspruch 22, wobei der Decoder Muster in dem Testsignal durch das Anwenden der Merkmale der fehlerbereinigten Testwerte auf das Mustererkennungsmodell und das zweite Mustererkennungsmodell identifiziert.
The method of claim 2, wherein the first pattern marking and the second pattern marking comprises marking the coating (22) with a single marking device.
Verfahren nach Anspruch 2, bei dem das Markieren des ersten Musters und das Markieren des zweiten Musters das Markieren der Beschichtung (22) mit einer einzigen Markierungseinrichtung umfasst.
The method of claim 2, wherein the first pattern marking and the second pattern marking comprise marking a first grid pattern and a second grid pattern, respectively, each comprising a plurality of conductive coating areas (44).
Verfahren nach Anspruch 2, bei dem das Markieren des ersten Musters und das Markieren des zweiten Musters das Markieren eines ersten Gittermusters und eines zweiten Gittermusters umfasst, wobei jedes eine Vielzahl von leitenden Beschichtungsbereichen (44) umfasst.
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