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etching process using
Examples with "etching process using" and their translation in Duits
Plasma etching process using a flurocarbon and silane
Plasma-Ätzverfahren unter Verwendung von einem Fluorkohlenwasserstoff und Silan
An ink jet head according to any of the preceeding claims, wherein said extrusions (58) of said orifice plate (4) and said discharge ports are formed by the etching process using high-luminance X rays.
Tintenstrahlkopf nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei dem die Extrusionen (58) der Öffnungsplatte (4) und die Abgabeöffnungen durch einen Ätzprozess unter Anwendung von Röntgenstrahlen mit hoher Luminanz geformt sind.
Method according to Claim 9, in which the barrier layer (10) is applied to the entire surface and is patterned in an etching process using the first electrode (12) as a mask.
Verfahren nach Anspruch 9, bei dem die Barriereschicht (10) ganzflächig aufgebracht wird und unter Verwendung der ersten Elektrode (12) als Maske in einem Ätzprozeß strukturiert wird.
Wet etching is a chemical etching process using a fluidic etchant.
Nassätzen ist ein chemischer Ätzprozess, der mit einem flüssigen Ätzmittel durchgeführt wird.
A method as claimed in claim 4 characterized in that said isotropic etching is a wet etching process using a hydrofluoric acid solution as an etching agent.
Ein Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das genannte isotrope Ätzen ein Naßätzverfahren unter Verwendung einer Fluorwasserstoffsäurelösung als Ätzmittel ist.
Mixed acid solution in etching process, process for producing the same, etching process using the same and process for producing semiconductor device
Ätzlösung aus gemischten Saüren, Verfahren zur Vorbereitung derselben, Ätzverfahren unter Verwendung derselben und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-Anordnung
Process of claim 9 further comprising etching the substrate by a dry etching process using the pattern of the layer of said radiation-sensitive negative resist composition as the mask.
Verfahren gemäß Anspruch 9, das ferner das Ätzen des Substrats durch ein Trockenätzverfahren unter Verwendung des Musters aus der Schicht aus dem strahlungsempfindlichen Negativ-Fotolackpräparat als Maske umfaßt.
The process of claim 15 further comprising etching the substrate by a dry etching process using the pattern of the layer of said radiation-sensitive negative resist composition as the mask.
Das Verfahren von Anspruch 15, das außerdem die Ätzung der Substrate durch ein trockenes Ätzungsverfahren, wobei das Muster der Schicht der strahlungsempfindlichen negativ resistenten Zusammensetzung als Maske benutzt wird.
Process as per claim 14, characterized in that the micro-pores (2) in the polymer membrane (1) are formed in a known manner by an ion irradiation and a subsequent etching process using a caustic solution.
Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Mikroporen (2) in der Polymermembran (1)in an sich bekannter Weise durch eine Ionenbestrahlung sowie in einem anschließenden Ätzprozeß mittels einer Lauge gebildet werden.
Etching solution for the etching of silicon oxides on a substrate and etching process using that solution.
Ätzmittel zum Ätzen von Siliciumoxiden auf einer Unterlage und Ätzverfahren.
A method as claimed in claim 4, in which the etching process used in the step of patterning the superconductor layer (25, 35) comprises a reactive ion etching process using a carbon tetra-fluoride etching gas.
Ein Verfahren nach Anspruch 4, bei dem das Ätzverfahren, das bei dem Schritt des Musterns der Supraleiterschicht (25, 35) verwendet wird, ein reaktives Ionenätzverfahren unter Verwendung eines Kohlenstofftetrafluoridätzgases umfaßt.
These were essentially as follows: The present state of the art did not permit an etching process using hydrogen peroxide in an acid solution to be carried out economically without the addition of stabilisers.
Nach dem Stand der Technik sei es nicht möglich, einen Ätzvorgang mittels Wasserstoffperoxid in saurer Lösung ohne den Zusatz von stabilisierenden Additiven unter wirtschaftlichen Bedingungen durchzuführen.
Andere resultaten
A method according to claim 13, wherein said etching treatment is a dry-etching process using an etching gas selected from the group consisting of NF₃, carbon halide, SF₆, BCl₃, H₂, and an inert gas.
Verfahren nach Anspruch 13, wobei die Ätzbehandlung ein Trockenätzen ist mit einem Inertgas der einem Ätzgas aus der Gruppe NF₃, Halogenkohlenstoff, SF₆, BCl₃, H₂.
Synoniemen voor etching process using in het Engels
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