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etching said first
Vertaling van "etching said first" in Duits
Ätzen der ersten
Ätzen des ersten
The method of claim 1, wherein altering said exposed surface comprises selectively etching said first semiconductor layer.
Verfahren nach Anspruch 1, bei welchem das Verändern der exponierten Oberfläche selektives Ätzen der ersten Halbleiterschicht umfasst.
The process according to claim 53, wherein said ion beam impinges on said sample at an incidence angle selected to substantially optimize the selectivity of etching said second layer relative to etching said first layer.
Verfahren nach Ansprruch 53, wobei der Ionenstrahl auf die Probe unter einem Einfallswinkel auftrifft, der dazu ausgewählt ist, im Wesentlichen die Selektivität des Ätzens der zweiten Schicht relativ zum Ätzen der ersten Schicht zu optimieren.
A method of manufacturing a liquid crystal display as recited in any preceding claim, wherein in the first photolithography process taper-etching is performed on the second metal film and then etching said first metal film is performed.
Verfahren zur Herstellung einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, worin im ersten Fotolithografieprozess ein Schrägätzen auf dem zweiten Metallfilm durchgeführt wird und dann ein Ätzen des ersten Metallfilms durchgeführt wird.
The method of claim 1, comprising the additional steps of: patterning said second insulation film to form an opening therein; and etching said first insulation film while using said second insulation film as a mask.
Verfahren nach Anspruch 1, mit den zusätzlichen Verfahrensschritten: Strukturieren des zweiten Isolationsfilms, um eine Öffnung darin auszubilden; und Ätzen des ersten Isolationsfilms unter Verwendung des zweiten Isolationsfilms als eine Maske.
The method according to any one of claims 1 to 4, wherein said method is a method of forming a contact hole in said first layer by etching said first layer, using photo resist as a mask.
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, worin das Verfahren ein Verfahren zur Bildung eines Kontaktloches in der ersten Schicht durch Ätzen der ersten Schicht ist unter Verwendung von Photoresist als Maske.
A method in accordance with claim 3, wherein said the conductive layer patterning step comprises etching said first conductive layer (22) so that a raised portion (30) is formed in said first conductive layer below each oxide pattern.
Ein Verfahren nach Anspruch 3, wobei der Schritt des Versehens der leitfähigen Schicht mit einem Muster das Ätzen der ersten leitfähigen Schicht (22) umfasst, so dass unter jedem Oxid-Muster ein erhöhtes Segment (30) in der ersten leitfähige Schicht gebildet wird.
The method of claim 9 wherein said step (d), etching said first photoresist mask (16) to a first predetermined depth, comprises etching to a depth greater than or equal to 500 angstroms.
Verfahren nach Anspruch 9, bei dem der Schritt (d), Ätzen der ersten fotoresistenten Maske (16) bis zu einer ersten vorbestimmten Tiefe, das Ätzen bis zu einer Tiefe von größer oder gleich 500 Å umfasst.
A technique according to claim 1 or claim 2 and wherein said etching step comprises the step of simultaneously etching said first and second metal layers (410,412) to customize said integrated circuit blank.
Verfahren nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, bei welchem der Ätzschritt den Schritt des gleichzeitigen Ätzens der ersten und der zweiten Metallschicht (410,412) zur kundenspezifischen Ausgestaltung des Rohlings der integrierten Schaltung umfaßt.
A method as claimed in claim 1, wherein said step (iii) comprises the step of etching said first regions (40) through said upper portion (14) of said substrate (10) and into said lower portion (12) of said substrate.
Ein Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt (iii) den Schritt enthält, den ersten Bereich (40) durch den oberen Abschnitt (14) des Substrates (10) hindurch und in den unteren Abschnitt (12) des Substrates hinein zu ätzen.
The method in accordance with claim, 7, comprising etching said first grating (68) into the surface of an optic formed of a first optical material (70).
Verfahren nach Anspruch 7, bei dem das erste Gitter (68) in die Oberfläche einer aus einem ersten optischen Material (70) gebildeten Optik geätzt wird.
The method of claim 26 further including: after etching said first sacrificial layer, growing a thin film on walls of pores of said filter.
Verfahren nach Anspruch 26, bei dem ferner: nach Ätzung der ersten Opferschicht eine dünne Folie auf Wänden von Poren des Filters zum Wachsen gebracht wird.
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Synoniemen voor etching said first in het Engels
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