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etching solution of claim
Geflecteerde vorm van etch solution of claim
Vertaling van "etching solution of claim" in Duits
Ätzlösung nach Anspruch
The etching solution of claim 6 in which the alkylphenol polyglycidol ether is a nonylphenol polyglycidol ether.
Ätzlösung nach Anspruch 6, bei der der Alkylphenol-polyglycidolether ein Nonylphenol-polyglycidolether ist.
The etching solution of claim 1 containing at least 0.1 moles of sulfate ester or a water soluble sulfate salt.
Ätzlösung nach Anspruch 1, die mindestens 0,1 Mole eines Sulfatesters oder eines wasserlöslichen Sulfatsalzes enthält.
The etching solution of claim 1 in which the alkyl amine is a secondary amine, a tertiary amine or mixtures thereof.
Ätzlösung nach Anspruch 1, bei der das Alkylamin ein sekundäres Amin, ein tertiäres Amin oder Mischungen davon ist.
The etching solution of claim 4 in which the nonionic wetting agent is an alkylphenol polyglycidol ether wherein n is from 6 to 12.
Ätzlösung nach Anspruch 4, bei welcher das nichtionische Netzmittel ein Alkylphenol-polyglycidolether ist, bei dem n 6 bis 12 beträgt.
The etching solution of claim 14 in which the nonionic amine glycidol adduct is represented by the formula: in which x is from 2 to 16.
Ätzlösung nach Anspruch 14, bei der das nichtionische Aminglycidol-Addukt dargestellt wird durch die Formel: in der x 2 bis 16 beträgt.
The etching solution of claim 1, 2 or 3 in which the wetting amount is from 5 to 50,000 parts per million by weight.
Ätzlösung nach Anspruch 1, 2 oder 3, bei welcher die benetzende Menge 5 bis 50.000 Gew.-Teile pro Mio. beträgt.
The etching solution of claim 1 or 2 in which hydrogen fluoride is present and the volume ratio of NH₄F to HF is from 3: 1 to 50: 1.
Ätzlösung nach Anspruch 1 oder 2, in welcher Fluor- Wasserstoff zugegen ist und das Volumenverhältnis von NH₄F zu HF 3: 1 bis 50: 1 beträgt.
The dental etching solution of claim 6, wherein the succinic acid concentration is between 1.0 and 3.0 parts by weight.
Dentalätzlösung nach Anspruch 6, worin die Succinsäurekonzentration zwischen 1,0 und 3,0 Gew.-Teilen liegt.
The dental etching solution of claim 8, wherein the solvent concentration is between about 1 and 30 parts by weight.
Dentalätzlösung nach Anspruch 8, worin die Lösungsmittelkonzentration zwischen etwa 1 und 30 Gew.-Teilen beträgt.
The dental etching solution of claim 1, wherein the aqueous solution includes a solvent which is selected from the group consisting of acetone, dimethyl sulfoxide, and ethanol.
Dentalätzlösung nach Anspruch 1, worin die wässerige Lösung ein Lösungsmittel enthält, welches aus der Gruppe ausgewählt ist, bestehend aus Aceton, Dimethylsulfoxid und Ethanol.
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