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Belichtungsmusterdaten
Belichtungsmusterdaten-Prüfsystem
System for inspecting exposure pattern data of semiconductor integrated circuit device.
System zur Prüfung von Belichtungsmusterdaten von halbleiterintegriertem Schaltungsgerät.
An exposure pattern data inspecting system according to claim 1, wherein said pattern test means effects a test by a predetermined designated resolution.
Belichtungsmusterdaten-Prüfsystem nach Anspruch 1, bei welchem die genannte Mustertesteinrichtung einen Test mit einer vorherbestimmten bezeichneten Auflösung durchführt.
An exposure pattern data inspecting system according to claim 1, wherein said outputting means comprises a cathode ray tube display unit (371,372, 373) for visually inspecting the pattern test result.
Belichtungsmusterdaten-Prüfsystem nach Anspruch 1, bei welchem die genannte Ausgabeinrichtung eine Kathodenstrahlröhren-Anzeigeeinheit (371,372, 373) zur visuellen Prüfung des Mustertestergebnisses umfaßt.
An exposure pattern data inspecting system according to claim 11, wherein said outputting means is further operatively connected to said inputting and converting means, for outputting said exposure pattern data.
Belichtungsmusterdaten-Prüfsystem nach Anspruch 11, bei welchem die genannte Ausgabeinrichtung ferner operativ mit der genannten Eingabe- und Umwandlungseinrichtung zur Ausgabe der genannten Belichtungsmusterdaten verbunden ist.
An exposure pattern data inspecting system according to claim 1, wherein said pattern test means comprises a circuit combining said exposure pattern data from said two inputting and converting units.
Belichtungsmusterdaten-Prüfsystem nach Anspruch 1, bei welchem die genannte Mustertesteinrichtung eine Schaltung umfaßt, die die genannten Belichtungsmusterdaten von den genannten beiden Eingabe- und Umwandlungseinheiten kombiniert.
An exposure pattern data inspecting system according to claim 1, wherein said inputting and converting means comprises dual data storing units (106,107, 206,207) for improving data input speed and data conversion speed.
Belichtungsmusterdaten-Prüfsystem nach Anspruch 1, bei welchem die genannte Eingabe- und Umwandlungseinrichtung duale Datenspeichereinheiten (106,107, 206,207) zur Verbesserung der Dateneingabegeschwindigkeit und Datenumwandlungsgeschwindigkeit umfaßt.
An exposure pattern data inspecting system according to claim 1, wherein said inputting and converting means input exposure pattern data of a plurality of layers at a same test region, said pattern testing means testing patterns on said plurality of layers.
Belichtungsmusterdaten-Prüfsystem nach Anspruch 1, bei welchem die genannte Eingabe- und Umwandlungseinrichtung Belichtungsmusterdaten einer Vielzahl von Schichten in der selben Testzone eingibt, wobei die genannte Mustertesteinrichtung Muster auf der genannten Vielzahl von Schichten testet.
An exposure pattern data inspecting system according to claim 2, wherein said pattern test means further comprises a logic circuit (330) changing at least one exposure pattern data from said two inputting and converting units, prior to said comparison of said exposure pattern data.
Belichtungsmusterdaten-Prüfsystem nach Anspruch 2, bei welchem die genannte Mustertesteinrichtung ferner eine Logikschaltung (330) umfaßt, die zumindest einen Belichtungsmusterdatenwert von den genannten beiden Eingabe- und Umwandlungseinheiten vor dem genannten Vergleich der genannten Belichtungsmusterdaten ändert.
An exposure pattern data inspecting system according to claim 1, wherein said inputting and converting means input said exposure pattern data with a predetermined data input resolution, said pattern test means effecting a test by a resolution defined by said data input resolution.
Belichtungsmusterdaten-Prüfsystem nach Anspruch 1, bei welchem die genannte Eingabe- und Umwandlungseinrichtung Belichtungsmusterdaten mit einer vorherbestimmten Dateneingabeauflösung eingibt, wobei die genannte Mustertesteinrichtung einen Test mit einer durch die genannte Dateneingabeauflösung definierten Auflösung durchführt.
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Synoniemen voor exposure pattern data in het Engels