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Bildprojektionsverfahren
Projector-type image display system, projector, information storage medium and image projection method
System zum Darstellen von Bildern mittels Projektion, Projektor, Informationsspeichermedium und Bildprojektionsverfahren
A method of manufacturing a semiconductor device comprising the image projection method as claimed in any one of Claims 1 to 4 for exposing a workpiece to the fine pattern, and the step of fabricating the device using the exposed workpiece.
Verfahren zur Herstellung einer Halbleitereinrichtung, welches das Bildprojektionsverfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4 aufweist, um einen Arbeitsgegenstand mit dem Feinmuster zu belichten, und den Schritt des Herstellens der Einrichtung unter Verwendung des belichteten Arbeitsgegenstands.
Image projection method and semiconductor device manufacturing method using the same.
Bildprojektionsverfahren und Herstellungsverfahren von Halbleiterbauteilen unter Verwendung desselben.
Photoelectron mask and photo cathode image projection method using the same.
Photoelektronische Maske und Verfahren zur Projektion eines durch eine Photokathode erzeugten Bildes unter Verwendung dieser Maske.
Projector, information storage medium, and image projection method
The higher-order moment-based image projection method of claim 1, wherein 2 <= r <= 128.
Projektionsverfahren auf der Basis statistischer Momente höherer Ordnung nach Anspruch 1, wobei 2 <= r <= 128.
Image projection method and semiconductor device manufacturing method using the same.
Optische Projektionsmethode und Verfahren zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen unter Verwendung dieser Methode.
Higher-order moment-based image projection method and image processing apparatus
Verfahren und Vorrichtung zur Bildprojektion, basierend auf statistischen Momenten höherer Ordnung
A photo cathode image projection method as claimed in claim 12, wherein the excitation light has a wavelength approximately between 220 and 300 nm.
Verfahren zur Photokathoden-Bildprojektion nach Anspruch 12, wobei die Wellenlänge des Erregerlichts ungefähr zwischen 220 und 300 nm liegt.
A semiconductor device manufacturing method comprising the image projection method as recited in any one of Claims 1-9, for manufacturing a semiconductor device in accordance with the image projection method.
Verfahren zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, in dem das in einem der Ansprüche 1-9 genannte Bildprojektionsverfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelementes in Übereinstimmung mit diesem Bildprojektionsverfahren eingeschlossen ist.
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Synoniemen voor image projection method in het Engels