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lithographic substrate focus control system
Vertaling van "lithographic substrate focus control system" in Duits
Lithografiesubstrat-Fokussteuerungssystem
The lithographic substrate focus control system of Claim 6, wherein said calculating unit is configured to calculate derivatives of said mathematical smooth function for calculating and incorporating at least one of a speed signal and force signal in said feed-forward set-point signal.
Lithografiesubstrat-Fokussteuerungssystem nach Anspruch 6, in welchem die Berechnungseinheit so ausgebildet ist, dass diese Ableitungen der mathematisch glatten Funktion zum Berechnen und Einbauen wenigstens eines Geschwindigkeitssignals und/oder Stärkesignals in das Feedforward-Sollwertsignal berechnet.
The lithographic substrate focus control system of any of Claims 1-5, wherein said calculating unit is configured to fit a mathematical smooth function to said substrate surface based on said surface information and to calculate said feed-forward set-point signal based on said fitted function.
Lithografiesubstrat-Fokussteuerungssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 5, in welchem die Berechnungseinheit so ausgebildet ist, dass diese eine mathematisch glatte Funktion an die Substratoberfläche basierend auf der Oberflächeninformation anpasst und das Feedforward-Sollwertsignal basierend auf der angepassten Funktion berechnet.
The lithographic substrate focus control system of any of Claims 1-3, wherein said substrate holder is provided with a substantially flat supporting surface for supporting said substrate and wherein the reference plane is substantially parallel oriented to the supporting surface.
Lithografiesubstrat-Fokussteuerungssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, in welchem der Substrathalter mit einer im Wesentlichen flachen Haltefläche zum Halten des Substrats versehen ist und in welchem die Bezugsebene im Wesentlichen parallel zu der Haltefläche ausgerichtet ist.
The lithographic substrate focus control system of Claim 6, wherein said mathematical function comprises at least one polynomial function that is fit locally to said substrate surface.
Lithografiesubstrat-Fokussteuerungssystem nach Anspruch 6, in welchem die mathematische Funktion wenigstens eine Polynomfunktion umfasst, die lokal an die Substratoberfläche angepasst ist.
The lithographic substrate focus control system of Claim 1, wherein said sensor unit includes a level sensor for measuring said surface information of said substrate.
Lithografiesubstrat-Fokussteuerungssystem nach Anspruch 1, in welchem die Sensoreinheit einen Niveausensor zum Messen der Oberflächeninformation des Substrats aufweist.
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