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method for plasma processing
Examples with "method for plasma processing" and their translation in Duits
Apparatus and method for plasma processing with enhanced confinement and flow conductance
Anlage und Verfahren zur Plasmabehandlung mit verbessertem Plasmaeinschluss und hohem Gasfluss
Performance evaluation method for plasma processing apparatus for continuously maintaining a desired performance level
Leistungsbeurteilungsverfahren für Plasmabehandlungsgeräte zur ständigen Einhaltung eines gewünschten Leistungsniveaus
DEVICE AND METHOD FOR PLASMA PROCESSING, AND SLOW-WAVE PLATE
EINRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR PLASMAVERARBEITUNG UND SLOW-WAVE-PLATTE
Andere resultaten
Method for enhancing plasma processing performance by irradiating with light
Verbesserung der Plasmaprozesswirkung durch Bestrahlen mit Licht
APPARATUS AND METHOD FOR REACTIVE ATOM PLASMA PROCESSING FOR MATERIAL DEPOSITION
VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR REAKTIVEN ATOMPLASMAVERARBEITUNG ZUR MATERIALABLAGERUNG
DEVICE AND METHOD FOR THE VACUUM PLASMA PROCESSING OF OBJECTS
VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR PLASMABEHANDLUNG VON GEGENSTÄNDEN IM VAKUUM
A method for controlling a plasma processing apparatus according to one of the preceding claims, wherein: said high frequency power that allows matching is at a level at which etching does not proceed.
Verfahren zum Steuern einer Plasmaverarbeitungsvorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die Hochfrequenzleistung, die den Abgleich erlaubt, auf einem Niveau liegt, bei dem kein Ätzen erfolgt.
DEVICE AND METHOD FOR MICROWAVE PLASMA PROCESSING, AND MICROWAVE POWER SUPPLY DEVICE
EINRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR MIKROWELLENPLASMA VERARBEITUNG UND MIKROWELLEN STROMVERSORGUNGSEINRICHTUNG
Method and apparatus for plasma processing apparatus
Verfahren und Vorrichtung für einer Plasmabearbeitungsgerät
DEVICE AND CONTROL METHOD FOR MICRO WAVE PLASMA PROCESSING
EINRICHTUNG UND STEUERVERFAHREN FÜR DIE MIKROWELLEN-PLASMAVERARBEITUNG
Device and method for processing a plasma to alter the surface of a substrate using neutrals
Vorrichtung und Verfahren zur Behandlung eines Plasma zur Oberflächenveränderung eines Substrates mittels neutrale Teilchen
The object of the invention is to improve the known plasma method for processing substrates in such a way that a homogeneous distribution of the etch rate is achieved and the indicated for this procedure it iorderliche changes to the known devices.
Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, die bekannten Plasmaverfahren zur Bearbeitung von Substraten dahingehend zu verbessern, dass eine homogene Verteilung der Ätzrate erreicht wird und die für dieses Verfahren er iorderliche Veränderungen an den bekannten Vorrichtungen anzugeben.
Plastic abrasive for sandblasting, method for sandblast processing plasma display panel substrate using the same and method for treating sandblasting waste matters
Kunststoffabrasivmittel zum Sandstrahlen, Verfahren zur Sandstrahlbearbeitung eines Plasmaanzeigesubstrates mit demselben Abrasivmittel und Verfahren zur Behandlung von Sandstrahlabfallmaterial
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