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of the first pattern
Vertaling van "of the first pattern" in Duits
Sensor arrangement according to any of the preceding claims, in which both directions of movements of the first pattern are located in a plane which is defined by the sensor plate.
Sensoranordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der beide Bewegungsrichtungen des ersten Musters in einer Ebene liegen, die durch die Sensorplatte definiert ist.
The method of claim 1, wherein the scanned image includes multiple copies of the first pattern.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei das gescannte Bild mehrere Kopien des ersten Musters enthält.
Complex sheet according to one of claims 1 to 3, characterized in that the two sheets are embossed and are bonded by the embossings of the first pattern on one and the embossings of the second pattern on the other by the so-called "nested" method.
Mehrlagiges Blatt nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Blätter geprägt und durch die Buckel des ersten Motivs auf dem einen und die Buckel des zweiten Motivs auf dem anderen nach dem sogenannten "ineinandergeschachtelten" Verfahren miteinander verbunden sind.
The method according to Claim 12, characterised in that an adhesive (11) is applied to the external surface of the central ply (4) opposite the distal surfaces of the first pattern (5) of the external embossed ply (2).
Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass ein Klebemittel (11) auf die äußere Oberfläche der Mittellage (4) gegenüber den distalen Oberflächen des ersten Motivs (5) der unteren geprägten äußeren Lage (2) aufgebracht wird.
The tire sidewall of claim 1 wherein the ridges of the first pattern have a substantially triangular cross sectional shape having an included angle at the apex of about 100º.
Reifenseitenwand nach Anspruch 1, wobei die Rippen des ersten Musters eine im wesentlichen dreieckige Querschnittsform mit einem eingeschlossenen Winkel am Kernreiter von ungefähr 100º aufweisen.
The apparatus (600) as recited in claim 47, wherein the second pattern is a mirror image of the first pattern.
Einrichtung (600) nach Anspruch 47, wobei das zweite Muster ein Spiegelbild des ersten Musters ist.
A position measuring apparatus according to claim 13, wherein the modulation of the first pattern and the second pattern is carried out by a spatial modulation in which the line width is varied.
Positionsmessvorrichtung gemäß Anspruch 13, wobei die Modulation des ersten Musters und des zweiten Musters ausgeführt wird durch eine räumliche Modulation, bei welcher die Linienbreite variiert ist.
A method according to claim 9, characterized in that each of the dot patterns (51) of the first pattern have a circular shape, and the subpattern (52) has an arcuated shape extending along a circumference of the dot pattern.
Ein Verfahren gemäß Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß jedes der Punktmuster (51) des ersten Musters eine kreisförmige Gestalt aufweist, und das Submuster (52) eine gekrümmte bzw. gewölbte Gestalt aufweist, die sich entlang eines Umfangs des Punktmusters erstreckt.
A manufacturing method according to claim 6, characterized in that each of the dot patterns (51) of the first pattern is shaped like a circle and each of the sub-patterns (54) is shaped like a line extending outside the dot pattern.
Herstellungsverfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß jedes der Punktmuster (51) des ersten Musters wie ein Kreis und jedes der Untermuster (54) wie eine Linie, die sich außerhalb des Punktmusters erstreckt, geformt wird.
A framing aid as claimed in claim 1, wherein at least one of the first pattern (14) or the second pattern (24) is located internally of a field of view of the document capture device (1).
Eine Rahmenbildungshilfe gemäß Anspruch 1, bei der zumindest eines des ersten Musters (14) oder des zweiten Musters (24) bezüglich eines Sichtfelds der Dokumenterfassungsvorrichtung (1) intern angeordnet ist.
Method according to claim 4 or 5, wherein said time segment of the first baseband signal includes a second sample pattern (x l), longer than the first pattern (x c), in addition to the consecutive occurrences of the first pattern.
Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, bei dem das Zeitsegment des ersten Grundbandsignals zusätzlich zu den aufeinander folgenden Auftritten des ersten Musters ein zweites Abtastmuster (x I), das länger als das erste Muster (x c) ist, enthält.
The method of claim 9, wherein the scanned image is a rectangle with a copy of the first pattern near each corner.
Verfahren nach Anspruch 9, wobei das gescannte Bild ein Rechteck mit einer Kopie des ersten Musters in der Nähe jeder Ecke ist.
The method of claim 1, wherein convolving a scanned image with a filter comprises setting a convolved pixel to a difference between a selected odd pixel and a selected even pixel of the first pattern (509,511).
Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Zusammenrollen eines gescannten Bildes mit einem Filter das Einstellen eines gefalteten Pixels auf die Differenz zwischen einem ausgewählten ungeraden Pixel und einem ausgewählten geraden Pixel des ersten Musters (509,511) umfasst.
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