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Teilmustern
These patterns are generated completely randomly; even in partial patterns, repetitions do not occur.
Diese Muster sind absolut zufällig generiert - auch in Teilmustern kommen keine Wiederholungen vor.
The unit for implementing or illuminating the distributed pattern is thereby designed such that the distributed pattern can be activated by the control and analysis unit separately in two complementary partial patterns.
Dabei ist die Einheit zur Darstellung oder Beleuchtung des verteilten Musters so ausgebildet, dass das verteilte Muster von der Steuer- und Auswerteeinheit in zwei komplementären Teilmustern separat aktivierbar ist.
In addition to the "pseudo-random patterns" previously used, "truly random patterns" with 31,806 or 47,708 dots are now also available: Repetitions do not occur with these patterns - not even with partial patterns.
Neben den bisher verwendeten „Pseudo Random Patterns" sind dafür nun auch „Truly Random Patterns" mit 31.806 oder 47.708 Punkten verfügbar: Bei diesen Mustern treten keinerlei Wiederholungen auf - noch nicht einmal bei Teilmustern.
A pattern can consist of IR-absorbent and IR-transparent partial patterns such that when observing transmitted light with normal light, a different transparent image can be recognised to that recognised when observing transmitted light with IR illumination.
Ein Muster kann aus IR-absorbierenden und IR-transparenten Teilmustern bestehen, so dass bei Durchlichtbetrachtung mit normalem Licht ein anderes Durchsichtsbild erkennbar ist als bei Durchlichtbetrachtung bei IR-Beleuchtung.
Method as claimed in claim 8, wherein two or more partial patterns can be combined into a composite pattern of the integrated circuit.
Verfahren nach Anspruch 8, bei welchem zwei oder mehrere Teilmuster zu einem zusammengesetzten Muster der integrierten Schaltung kombiniert werden.
A pattern generating method according to any of claims 1 to 6, characterized in that partial patterns having strips of equal widths are placed one after another in the total pattern, whereby, optionally, several strips within the partial patterns are rearranged.
Schnittmuster-Erzeugungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass Teil-Schnittmuster mit Streifen gleicher Breite im Gesamt-Schnittmuster hintereinander platziert werden, gegebenenfalls unter Umreihung einzelner Streifen innerhalb von Teil-Schnittmustern.
Method of manufacturing a semiconductor device whereby photomasks comprising partial patterns are projected onto a photoresist layer so as to merge into one another.
Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung wobei photolithographische Masken mit Teilmustern aufeinander Anschliessend auf einer Photolackschicht abgebildet werden.
Because the direction of the diagonal orientation of partial patterns can be mixed, we get a whole family of extensible solutions. All are based on the same
Da sich die Richtung der Diagonalen vielfach mischen läßt, entsteht eine ganze Familie von erweiterbaren Lösungen, die jedoch alle auf dem gleichen Prinzip beruhen.
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