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patterning the first
Vertaling van "patterning the first" in Duits
Strukturieren der ersten
The process of claim 4 further comprising the step of: forming the first electrode before forming the ferroelectric layer, wherein patterning the first layer forms the second electrode.
Verfahren nach Anspruch 4, welches ferner den Schritt aufweist: Bilden der ersten Elektrode vor dem Bilden der ferroelektrischen Schicht, wobei das Strukturieren der ersten Schicht die zweite Elektrode bildet.
The method of claim 1 wherein patterning the first surface (138) of the first layer (126) includes removing material from the first layer to form a depression (140) along the first surface.
Das Verfahren gemäß Anspruch 1, bei dem das Strukturieren der ersten Oberfläche (138) der ersten Schicht (126) das Entfernen von Material von der ersten Schicht umfaßt, um eine Vertiefung (140) entlang der ersten Oberfläche zu bilden.
A method of fabricating an integrated circuit as claimed in claim 1 and including the step of: patterning the first insulating layer (20) to expose contact locations spaced apart at substantially minimum process geometry.
Verfahren zum Herstellen einer integrierten Schaltung nach Anspruch 1, enthaltend den Schritt: Strukturieren der ersten isolierenden Schicht (20) zum Freilegen von Kontaktstellen, die mit im wesentlichen der minimalen Prozeßgeometrie im Abstand voneinander liegen.
The method of claim 1 wherein patterning the first surface (138) includes selecting a pattern to define a light reflection pattern for light generated by the LED (128).
Das Verfahren gemäß Anspruch 1, bei dem das Strukturieren der ersten Oberfläche (138) das Auswählen einer Struktur umfaßt, um eine Lichtreflexionsstruktur für Licht zu definieren, das durch die LED (128) erzeugt wird.
The method of claim 17 or 18 further comprises: forming a first electrode layer over the substrate; patterning the first electrode layer to form first electrodes (112) of the OLED pixels.
Verfahren nach Anspruch 17 oder 18, das ferner umfasst: Bilden einer ersten Elektrodenschicht auf dem Substrat; Strukturieren der ersten Elektrodenschicht, um erste Elektroden (112) der OLED-Pixel zu bilden.
The method of claim 6 further including patterning the first and second conductors (20, 40) to produce an addressable matrix.
Verfahren nach Anspruch 6, das das Bemustern des ersten und zweiten Leiters (20, 40) umfasst, um eine adressierbare Matrix zu erzeugen.
The method of claim 6, and further comprising the step of: rotating the hinged mask away from the several layers after dry patterning the first layer.
Verfahren nach Anspruch 6, das ferner den folgenden Schritt umfasst: Drehen der Scharniermaske weg von den mehreren Schichten nach dem Trockenstrukturieren der ersten Schicht.
The method of claim 1 in which the step of patterning the first layer includes the formation of a resistor layer, and the step of forming through holes includes forming at least two through holes to contact the resistor layer.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt der Strukturierung der ersten Schicht die Bildung einer Widerstandsschicht beinhaltet und der Schritt der Bildung von Durchgangslöchern die Bildung von mindestens zwei Durchgangslöchern zum Kontaktieren der Widerstandsschicht beinhaltet.
A process as claimed in claim 2, wherein the step of patterning the second layer (40) of electrically insulating material and the third layer of magnetic material is carried out prior to the step of patterning the first layer of magnetic material.
Ein Verfahren gemäß Anspruch 2, in dem der Schritt des Strukturierens der zweiten Schicht (40) aus elektrisch isolierendem Material und der dritten Schicht Magnetmaterial vor dem Schritt des Strukturierens der ersten Schicht Magnetmaterial ausgeführt wird.
A method as claimed in any one of claims 8 to 13, wherein in the step of patterning the first and second conductive films the same mask film is used for patterning both of the conductive films (18, 25).
Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 13, bei dem bei dem Schritt, den ersten und zweiten leitfähigen Film mit Muster zu versehen, derselbe Maskierungsfilm dazu verwendet wird, die beiden leitfähigen Filme (18, 25) mit Muster zu versehen.
A method according to claim 1, wherein the gate electrode (10) is used as a mask for patterning the first insulating film (5).
Verfahren nach Anspruch 1, worin die Gateelektrode (10) als eine Maske zum Mustern des ersten isolierenden Films (5) verwendet wird.
The method of any one of claims 1 to 3, further comprising the step of, prior to the step of forming a second insulating layer (22), patterning the first aluminum layer (20) to define a first aluminum interconnect layer.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, das ferner den Schritt aufweist, dass vor dem Schritt zum Ausbilden einer zweiten isolierenden Schicht (22) die erste Aluminiumschicht (20) strukturiert bzw. mit einem Muster versehen wird, um eine erste Aluminium-Zwischenkontaktschicht festzulegen.
A method as claimed in claim 8, 9 or 10, characterised in that the step of patterning the first conductive film (18) and the insulation layer (13, 17) is carried out by anisotropic etching.
Verfahren nach Anspruch 8, 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt, den ersten leitfähige Film (18) und die Isolierschicht (13, 17) mit Muster zu versehen, durch anisotropes Ätzen ausgeführt wird.
Synoniemen voor patterning the first in het Engels
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