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process and device simulation
Vertaling van "process and device simulation" in Duits
Prozeß- und Vorrichtungssimulationssystem
Compared with this, computer simulation in principle allows for a comprehensive and cost-effective investigation of this problem: Through process and device simulation, the electrical behavior of devices which were fabricated with a certain process sequence can be predicted.
Demgegenüber erlaubt die Computersimulation im Prinzip eine umfassende und kostengünstige Untersuchung dieser Problematik: Mittels der Prozess- und Bauelementesimulation können die elektrischen Daten von Bauelementen, die mit einer gegebenen Prozessfolge hergestellt wurden, vorausberechnet werden.
A unified process and device simulation system as set forth in claim 1, wherein said processing means (40) generates extension data by extending the simulation data corresponding to the center line of said semiconductor device for said predetermined length.
Vereinigtes Prozeß- und Vorrichtungssimulationssystem nach Anspruch 1, wobei die Verarbeitungseinrichtung (40) Erweiterungsdaten durch Erweitern der Simulationsdaten entsprechend der Mittenlinie der Halbleitervorrichtung für die vorbestimmte Länge erzeugt.
These problems occur in application areas such as fluid flow, structural mechanics, oil reservoir and ground water simulation, casting and molding, process and device simulation in solid state physics and circuit simulation
Solche Probleme findet man in den Anwendungsgebieten Strömungsmechanik, Strukturmechanik, Ölreservoir- und Grundwassersimulation, Gießereitechnik, Prozess- und Devicesimulation in der Halbleiterphysik sowie der Schaltkreissimulation.
A unified process and device simulation system as set forth in claim 1, wherein said data processing means (40) is adapted for adding said extension data between said first simulation data and said mirror data.
Vereinigtes Prozeß- und Vorrichtungssimulationssystem nach Anspruch 1, wobei die Datenverarbeitungseinrichtung (40) zum Hinzufügen der Erweiterungsdaten zwischen den ersten Simulationsdaten und den Spiegeldaten geeignet ist.
"Future Aspects of Process and Device Simulation"
"Berechnung von Elektronenbahnen und Raumladung"
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