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said etching process
Vertaling van "said etching process" in Duits
der Ätzprozess
The method for preparing a semiconductor member according to claim 1, characterized in that said etching process is carried out after said bonded substrate except for said porous silicon surface is covered with an anti-etching film.
Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterelementes nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Ätzprozeß durchgeführt wird, nachdem der verklebte Träger mit Ausnahme der porösen Siliciumoberfläche mit einem Ätzschutzfilm bedeckt wurde.
The method for forming the plurality of microlenses (10) according to claim 1, wherein said etching process is conducted by using etching gas exhibiting an anisotropic etching characteristic.
Verfahren zum Ausbilden der Vielzahl von Mikrolinsen (10) gemäß Anspruch 1, bei dem der Ätzprozess unter Verwendung von Ätzgas durchgeführt wird, das eine anisotropische Ätzcharakteristik zeigt.
A method according to any of claims 1 to 3, wherein said etching process includes a wet etching process and then a plasma dry etching process.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei der Ätzprozess einen Nassätzprozess und dann einen Plasma-Trockenätzprozess beinhaltet.
A method according to claim 11, wherein said etching process comprises a molecular layer etching process with a chlorine gas adsorbed to the surface of a GaAs crystal substrate.
Verfahren nach Anspruch 11, bei dem der Ätzprozeß einen Molekularschicht-Ätzprozeß mit Chlorgas, das zur Oberfläche eines GaAs-Kristallsubstrats adsorbiert wird, enthält.
The method for making a magnetic head slider according to claim 16 wherein said etching process comprises reactive ion etching.
Die Methode zur Herstellung eines Magnetkopfgleitstücks nach Anspruch 17, bei der das genannte Ätzverfahren das reaktive Ionenätzen umfaßt.
A method according to claim 10 wherein said etching process in step (e) is a wet oxide etch technique.
Ein Verfahren gemäß Anspruch 10, in dem der Ätzprozeß in Schritt (e) eine Naßoxid-Ätztechnik ist.
The method of manufacturing a thin film transistor recited in claim 1, wherein the etchant used in said etching process is an etching liquid made from an organic reducing agent.
Verfahren zum Herstellen eines Dünnfilmtransistors nach Anspruch 1, wobei das Ätzmittel, das bei dem Ätzvorgang verwendet wird, eine Ätzflüssigkeit ist, die aus einem organischen Reduktionsmittel besteht.
A method in accodance with any one of the preceding claims, characterised in that a negative bias of -1300 V to -2000 V is applied to said substrate or to said parts during the carrying out of said etching process.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine negative Vorspannung von -1300 V bis -2000 V an das Substrat oder an die Teile während der Ausführung des Ätzprozesses angelegt wird.
A method as claimed in any of claims 1 to 7, characterized in that said etching process used in said step (e) is a sputter etching process.
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Synoniemen voor said etching process in het Engels
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