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said first diffraction grating
Vertaling van "said first diffraction grating" in Duits
das erste Beugungsgitter
dem ersten Beugungsgitter
vom ersten Beugungsgitter
An apparatus according to claim 3 or 4, wherein said first diffraction grating has reflectance increasing monotonically along a direction moving away from said semiconductor light-emitting device.
Eine Vorrichtung nach Anspruch 3 oder 4, wobei das erste Beugungsgitter eine sich monoton vergrößernde Reflektanz entlang einer Richtung aufweist, die sich von der Licht emittierenden Halbleitervorrichtung weg erstreckt.
A diffractive optical element according to claim 2 or 3, wherein said first diffraction grating (3a) and said base plate are made of the same material.
Optisches Beugungselement gemäß Anspruch 2 oder 3, wobei das erste Beugungsgitter (3a) und die Grundplatte aus dem gleichen Material hergestellt sind.
A magneto-optical head system, according to any of claims 1 to 4, wherein said first diffraction grating is a linear grating, and said second diffraction grating is a holographic plate.
System für magneto-optischen Kopf nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei das erste Beugungsgitter ein Strichgitter und das zweite Beugungsgitter eine holographische Platte ist.
An apparatus according to any of the preceding claims, wherein said first diffraction grating has the grating period changing monotonically along said optical-axis direction.
Eine Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das erste Beugungsgitter eine Beugungsperiode aufweist, die sich monoton entlang der Richtung der optischen Achse ändert.
A display apparatus according to Claim 1, wherein said first diffraction grating (11) comprises a hologram.
Anzeigevorrichtung nach Anspruch 1, bei der das erste Beugungsgitter (11) ein Hologramm umfaßt.
A magneto-optical head system, according to claim 1, wherein: said second diffraction grating diffracts polarizing components of a light supplied from said first diffraction grating.
System für magneto-optischen Kopf nach Anspruch 1, wobei das zweite Beugungsgitter polarisierte Komponenten eines vom ersten Beugungsgitter zugeführten Lichts beugt.
An apparatus according to claim 3, wherein the grating period of said first diffraction grating on the semiconductor light-emitting device side is shorter than that on the opposite side.
Eine Vorrichtung nach Anspruch 3, wobei die Gitterperiode des ersten Beugungsgitters auf der Seite der Licht emittierenden Halbleitervorrichtung kürzer als die auf der gegenüberliegenden Seite ist.
An optical space switch device as claimed in claim 2, wherein said first diffraction grating layer is formed integrally on a face of a transparent flat plate, and said second diffraction grating layer is formed integrally on the other face of said transparent flat plate.
Optische Raumlagenschalteinrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Beugungsgitterschicht integral auf einer Stirnfläche einer transparenten flachen Platte gebildet ist, und die zweite Beugungsgitterschicht integral auf der anderen Stirnfläche der transparenten flachen Platte gebildet ist.
An apparatus according to claim 3, characterized in that said plurality of optical elements further includes a concave mirror (CM), and the optical paths diffracted and deflected by said first diffraction grating are mutually crossed at a substantially center of said concave mirror.
Vorrichtung gemäß Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Vielzahl optischer Elemente außerdem einen Konkavspiegel (CM) einschließt und die vom ersten Beugungsgitter gebeugten und abgelenkten Strahlengänge sich annähernd im Mittelpunkt des Konkavspiegels kreuzen.
A method for producing a photomask as claimed in Claim 8 wherein the grating surface on said first diffraction grating (2; 15; 18) is formed by drawing directly on a photoresist on the substrate by changing dose.
Verfahren zur Herstellung einer Photomaske gemäß Anspruch 8, wobei die Gitteroberfläche auf dem ersten Beugungsgitter (2; 15; 18) durch direkte Zeichnung auf einen Photoresist auf dem Substrat mittels wechselnder Dosis gebildet wird.
A method for producing a photomask as claimed in Claim 6 or 7 wherein the grating surface on said first diffraction grating (2; 15; 18) is formed by photolithography.
Verfahren zur Herstellung einer Photomaske gemäß Anspruch 6 oder 7, wobei die Gitteroberfläche auf dem ersten Beugungsgitter (2; 15; 18) mittels Photolithographie gebildet wird.
A method for producing a photomask as claimed in Claim 5 or 6 wherein the grating surface on said first diffraction grating (2; 15; 18) is formed by cutting.
Verfahren zur Herstellung einer Photomaske gemäß den Ansprüchen 5 oder 6, wobei die Gitteroberfläche auf dem ersten Beugungsgitter (2; 15; 18) mittels Ritzen gebildet wird.
A magneto-optical head system, according to claim 1, wherein: said second diffraction grating diffracts only a polarizing component of a light supplied from said first diffraction grating, said polarizing component being orthogonal to a polarizing component diffracted at said first diffraction grating.
System für magneto-optischen Kopf nach Anspruch 1, wobei das zweite Beugungsgitter nur eine polarisierte Komponente eines vom ersten Beugungsgitter zugeführten Lichts beugt, wobei die polarisierte Komponente zu einer am ersten Beugungsgitter gebeugten polarisierten Komponente orthogonal ist.
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