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said pattern layer
Vertaling van "said pattern layer" in Duits
der Strukturschicht
die Musterschicht
der Musterschicht
A printer according to claim 1, wherein: the thickness of said pattern layer is 15 µm or more.
Drucker nach Anspruch 1, bei dem die Dicke der Strukturschicht 15 µm oder mehr beträgt.
A method according to claim 3 characterized in that the code is stored on the pattern layers by programmably masking a designated area of said pattern layer.
Ein Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Code auf den Strukturschichten gespeichert wird, indem ein gekennzeichnetes Gebiet der Strukturschicht programmierbar maskiert wird.
The papermaking belt (10) according to any one of claims 1 to 8, characterized in that said pattern layer is cast from photosensitive resin.
Papier machendes Band (10) nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Musterschicht aus einem lichtempfindlichen Harz gegossen ist.
The method of claim 12, wherein said pattern layer (203) has a thickness or said recesses (1003) have a depth of approximately 1/4 of the wavelength of said EUV illuminating radiation.
Verfahren nach Anspruch 12, wobei die Musterschicht (203) eine Dicke aufweist oder die Vertiefungen (1003) eine Tiefe aufweisen, die ungefähr 1/4 der Wellenlänge der EUV-Beleuchtungsstrahlung beträgt.
A method as claimed in claims 3 or 4, wherein said layer (6) for forming the wall of the ink path(s) formed over said pattern layer (5) comprises a photosensitive material which is cured by said irradiation source.
Verfahren nach Anspruch 3 oder Anspruch 4, worin die Schicht (6) zur Bildung der Wand des Tintenweges beziehungsweise der Tintenwege, die über der Musterschicht (5) gebildet wurde, ein lichtempfindliches Material umfaßt, das durch die Bestrahlungsquelle gehärtet wird.
A method for preparing an ink jet recording head as claimed in any preceding claim, wherein the material of said pattern layer (5) contains at least one of nitrocellulose, polysilane compounds and poly(o-phthalaldehyde).
Verfahren zur Herstellung eines Tintenstrahlaufzeichnungskopfes nach einem der vorhergehenden Ansprüche, worin das Material der Musterschicht (5) wenigstens ein Material enthält, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Nitrocellulose, Polysilanverbindungen und Poly(o-phthalaldehyd).
An apparatus according to Claims 1, 2, 3, 4 and 5 characterized in that said pattern layer does not penetrate said portion of said felt having said reflectance greater than 0.4 absorbance units.
Vorrichtung nach den Ansprüchen 1, 2, 3, 4 und 5, dadurch gekennzeichnet, daß die profilierte Lage nicht den Abschnitt des Filzes durchdringt, der das Reflektionsvermögen aufweist, das größer als 0,4 dekadische Extinktionseinheiten ist.
Synoniemen voor said pattern layer in het Engels
Woord & uitdrukking van de dag
Afbeelding van de dag
Resultaten: 7. Exact: 7. Verstreken tijd: 40 ms.
