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der Schritt des Strukturierens
The method of claim 1 wherein said step of patterning said sheet comprises removing material from said sheet to form a plurality of metal stripes within said sheet.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt des Strukturierens des Blattes das Entfernen von Material von dem Blatt umfaßt, um eine Vielzahl von Metallstreifen innerhalb des Blattes zu bilden.
The method of Claim 7 or Claim 8, wherein said step of patterning said first metal layer comprises forming at least one hinge.
Verfahren nach Anspruch 7 oder Anspruch 8, bei dem der Schritt des Strukturierens der ersten Metallschicht das Bilden wenigstens eines Drehgelenks umfaßt.
A method as claimed in claim 8 characterized in that said step of patterning comprises an ion milling process.
Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt des Ausbildens eines Musters einen Ionenätzprozeß enthält.
The process of claim 3 wherein said step of patterning includes a conventional photolithographic step with an overetching of the barrier layer to ensure its complete removal in the exposed region.
Verfahren nach Anspruch 3, bei welchem der Schritt der Musterbildung einen üblichen photolithographischen Schritt beinhaltet, mit einem Überätzen der Barriereschicht, um deren vollständige Entfernung in dem exponierten Bereich sicherzustellen.
The method of claim 1 in which said step of patterning said material layer creates an edge which overlies the previously exposed portion of said substrate.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei der besagte Schritt des Strukturierens der besagten Materialschicht eine Kante erzeugt, die den vorher freiliegenden Teil des besagten Substrats überdeckt.
A method for manufacturing a liquid discharge head according to one of the preceding claims, wherein said liquid flow path walls (10) and said liquid supply ports (5) are formed by photolithographic process using negative type resist in said step of patterning wall material.
Verfahren zur Herstellung eines Flüssigkeitsausstoßkopfes gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei für das zu bemusternde Wandmaterial ein negatives Resist verwendet wird und die Flüssigkeitskanalwände (10) sowie die Flüssigkeitszuführöffnungen (5) photolithographisch erzeugt werden.
The method as recited in claim 1, wherein said step of patterning said laser defining layer includes making an aperture using photolithography and buffered HF.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt der Strukturierung der Laserdefinitionsschicht die Herstellung einer Öffnung unter Verwendung von Photolithographie und gepufferter HF beinhaltet.
The process of Claim 1 wherein said organic polymeric material is a photoresistive material, and said step of patterning includes the steps of masking said layer of material at all locations at which spacers are not desired and developing the exposed material.
Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das organische Polymermaterial ein licht-unempfindliches Material ist und der Schritt des Musterns folgende Schritte enthält: Abdecken der Materialschicht an all den Orten, an denen Abstandhalter nicht erwünscht sind, und Entwickeln des freiliegenden Materials.
A method according to Claim 1 or 6, wherein said alkaline aqueous solution is a developer for a photoresist used in said step of patterning.
Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 6, wobei die alkalische wässrige Lösung ein Entwicklungsmittel für einen in dem Musterbildungsschritt eingesetzten Photoresist darstellt.
The vertical orientation type dot matrix liquid crystal display according to claim 3, wherein a photolithographying process is employed for executing said step of patterning.
Punktmatrix-Flüssigkristallanzeige vom Vertikalausrichtungstyp nach Anspruch 3, bei der ein Photolithographieprozeß zur Ausführung des Musterungsschrittes verwendet wird.
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