Vertaling van "second diffusion barrier layer" in Duits
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zweiten Diffusionssperrschicht
zweite Diffusionssperrschicht
zweite Diffusionsbarriereschicht
A process according to claim 3 or claim 4 wherein a second diffusion barrier layer (20) is formed between the conductive material (18) and the glass adhesion material (22).
Prozeß nach Anspruch 3 oder 4, wobei eine zweite Diffusionssperrschicht (20) zwischen dem leitenden Material (18) und der Glashaftschicht (22) ausgebildet wird.
The method of claim 13, wherein the thickness of said second diffusion barrier layer (17b) is formed thicker than that of said first diffusion barrier layer (17a).
Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Diffusionssperrschicht (17b) so ausgebildet wird, dass ihre Dicke größer als die der ersten Diffusionssperrschicht (17a) ist.
A semiconductor device as claimed in claim 13 or 14, wherein said diffusion barrier layer comprises a first diffusion barrier layer composed of a transition metal, and a second diffusion barrier layer composed of a transition metal compound.
Halbleitereinrichtung nach Anspruch 13 oder 14, bei der die Diffusionsbarrierenschicht eine aus einem Übergangsmetall zusammengesetzte erste Diffusionsbarrierenschicht und eine aus einer Übergangsmetallverbindung zusammengesetzte zweite Diffusionsbarrierenschicht aufweist.
A method according to any one of claims 5 to 8, wherein the second diffusion barrier layer (147) is formed to have a double-layer structure where Ir and IrO 2 are sequentially stacked, and the conductive layer pattern (150) is formed of Pt.
Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 8, worin die zweite Diffusionsbarriereschicht (147) so ausgebildet wird, dass eine Doppelschichtstruktur erhalten wird, wo Ir und IrO 2 sequentiell aufgelagert werden und das Leitschichtmuster (150) aus Pt gebildet wird.
The method of claim 1, further comprising the steps of: forming a second diffusion barrier layer over said first interconnect layer prior to said step of forming said interlevel oxide; and forming a second reaction metal layer over said second diffusion barrier layer.
Verfahren nach Anspruch 1 mit den weiteren Schritten: Bilden einer zweiten Diffusionssperrschicht über der ersten Verbindungsschicht vor dem Schritt des Bildens des Zwischenebenenoxids und Bilden einer zweiten Reaktionsmetallschicht über der zweiten Diffusionssperrschicht.
Process according to Claim 2, in which the structured first diffusion barrier layer (6) is removed before the second diffusion barrier layer (12) is applied, in which only the second diffusion barrier layer (12) is structured.
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