Gesproken tekst vertalen, offlinefuncties, synoniemen, vervoegingen, educatieve spelletjes
Publiciteit
Registreer gratis: toegang tot meer resultaten en functies
second mask layer
Vertaling van "second mask layer" in Duits
zweite Maskenschicht
A method as claimed in claim 1, characterized in that the first and the second mask layer of resist are removed with an isotropic etch.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und die zweite Maskierungsschicht aus Photolack bei einer isotropen Ätzung entfernt werden.
In other words, a second level of vias is defined in a second mask layer of photoresist 326 and then the second oxide layer 324 is etched, using any suitable process, e.g.
Mit anderen Worten, es wird eine zweite Ebene von Durchkontakten in einer zweiten Maskenschicht aus Photoresist 326 definiert und anschließend wird die zweite Oxidschicht 324 unter Verwendung eines geeigneten Prozesses, z.
The method of manufacturing a semiconductor device of claim 6 or 7, wherein the second mask layer (34) is a second oxide film, the second aperture (35a) being formed by etching the second oxide film with a resist as a mask.
Verfahren zum Herstellen einer Halbleitereinrichtung nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Maskenschicht (34) ein zweiter Oxidfilm ist, wobei die zweite Öffnung (35a) durch Ätzen des zweiten Oxidfilms mit einem Abdeckfilm als eine Maske gebildet wird.
The method according to any preceding claim, further comprising removing said photosensitive layer, said second mask layer and said first mask layer from said substrate, after said step of etching said predetermined pattern in the substrate.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei weiterhin die photoempfindliche Schicht, die zweite Maskenschicht und die erste Maskenschicht nach dem Schritt des Ätzens des vorgegebenen Musters in das Substrat von diesem entfernt werden.
The method according to claim 1 wherein the step of forming said second mask layer (32) comprises growing said layer by thermal oxidation of said wafer material.
Verfahren nach Anspruch 8, worin die Stufe des Ausbildens der zweiten Maskierungsschicht (32) das Aufwachsen dieser Schicht durch thermische Oxidation des Scheibenmaterials umfaßt.
The method of claim 1, further comprising forming said first mask layer as an ion mill mask layer and forming said second mask layer as a dry-etch-selective mask layer.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei weiterhin die erste Maskenschicht als eine Maskenschicht für ein Ionenstrahlätzen gebildet wird und die zweite Maskenschicht als eine für das Trockenätzen selektive Maskenschicht gebildet wird.
The method according to any preceding claim, further comprising providing said second mask layer as TiW.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei weiterhin die zweite Maskenschicht als TiW bereitgestellt wird.
Synoniemen voor second mask layer in het Engels
Resultaten: 7. Exact: 7. Verstreken tijd: 37 ms.
