The desired defect concentration in the applied semiconductor layer is then set.
Im Anschluss daran wird die gewünschte Defekt konzentration in der aufgetragenen Halbleiterschicht eingestellt.
This produces a positive and a negatively charged semiconductor layer.
Our panels generate the infrared heat through the semiconductor layer.
Unsere Paneelen erzeugen die Infrarotwärme durch ihre Halbleiterschicht.
Method for fabricating a semiconductor device including a semi-insulating semiconductor layer.
Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements, das eine halbisolierende Halbleiterschicht umfasst.
Method of manufacturing a crystallized semiconductor layer and semiconductor devices using it.
Verfahren zur Herstellung einer kristallisierten Halbleiterschicht und diese verwendenden Halbleitervorrichtungen.
To apply an organic semiconductor layer, the buffer layer should be closed pores.
Um eine organische Halbleiterschicht aufbringen zu können, soll die Pufferschicht geschlossenporig sein.
The non-epitaxial semiconductor layer is finally crystallized by inputting energy.
Abschließend wird die nicht-epitaktische Halbleiterschicht mittels eines Energieeintrages kristallisiert.
Semiconductor memory device having a bit line constituted by a semiconductor layer.
Halbleiterspeicherbauteil mit Bitleitung, welche aus einer Halbleiterschicht besteht.
For example, a structure of the semiconductor layer may be carried out first.
Beispielsweise kann zunächst eine Strukturierung der Halbleiterschicht erfolgen.
A method of producing a thin semiconductor layer.
Verfahren zum Herstellen einer dünnen Halbleiterschicht.
A method for producing a single crystalline semiconductor layer.
Verfahren zur Herstellung einer monokristallinen Halbleiterschicht.
Process for producing single crystal semiconductor layer.
Verfahren zum Herstellen einer monokristallinen Halbleiterschicht.
The polycrystalline semiconductor layer contains the crystallization seeds.
Die polykristalline Halbleiterschicht enthält die Kristallisationskeime.