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source of RF power

Vertaling van "source of RF power" in Duits

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HF-Energiequelle
A process according to any one of the preceding claims, wherein steps a) to d) are carried out in a single sputtering chamber fitted with a source of RF power connected to the substrate support.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Stufen a) bis d) in einer einzigen Zerstäuberkammer, die mit einer HF-Energiequelle ausgestattet ist, welche mit dem Substratträger verbunden ist, durchgeführt werden.
The process according to any of the preceding claims, characterised in that the step of applying RF power further comprises the steps of mounting the wafer on a pedestal which contains an electrically conductive electrode, and electrically connecting a source of RF power to the pedestal electrode.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , daß zu dem Schritt des Anlegens von HF-Energie die weiteren Schritte gehören, daß der Wafer auf einem eine elektrisch leitende Elektrode enthaltenden Sockel angebracht wird und daß eine HF-Energiequelle an die Sockelelektrode elektrisch angeschlossen wird.
The process according to Claim 14, characterised in that the step of applying RF power further comprises electrically connecting said source of RF power between the dispensing electrode and the wafer.
Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet , daß zu dem Schritt des Anlegens von HF-Energie weiter gehört, daß die HF-Energiequelle elektrisch zwischen die Abgabeelektrode und den Wafer geschaltet wird.
A plasma reactor as in claim 32 wherein current is driven through said induction coil between said first end and a second end such that the induction coil inductively couples power from said source of rf power into said plasma.
Plasmareaktor nach Anspruch 32, bei dem der Strom durch die Induktionsspule zwischen dem ersten Ende und einem zweiten Ende so geführt wird, daß die Induktionsspule induktiv Energie von der HF-Energiequelle in das Plasma koppelt.
A plasma reactor as in claim 1 wherein the source of rf power comprises a first source (43) of radio frequency power, and a second source (51) of radio frequency power.
Plasmareaktor nach Anspruch 1, bei dem die HF-Energiequelle eine erste Quelle (43) einer Hochfrequenz-Energie und eine zweite Quelle (51) einer Hochfrequenz-Energie aufweist.
A method according to claim 1 wherein said plasma is generated by passing a flow of nitrogen-containing gas to the processing chamber (114) fitted with a source of RF power (128) and igniting a plasma of said gas.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Plasma durch Leiten eines Stroms von Stickstoff enthaltendem Gas in die Bearbeitungskammer (114), welche mit einer Quelle für eine RF-Leistung (128) ausgestattet ist, und durch Zünden eines Plasmas des Gases erzeugt wird.
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scouring pad: small abrasive pad for scouring pots and pans
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