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Nassätzverfahren
Ätzprozess
A method according to claim 6 or 7, wherein removal of said first nitride film (23) is performed by a wet etching process.
Verfahren nach Anspruch 6 oder 7, wobei das Entfernen des ersten Nitridfilms (23) mit einem Nassätzverfahren erfolgt.
A method for manufacturing an ink jet head according to Claim 1, wherein said wet etching process uses the mixed solution of hydrofluoric acid and ammonium fluoride.
Verfahren zur Herstellung eines Tintenstrahlkopfs nach Anspruch 1, wobei das Nassätzverfahren eine gemischte Lösung aus Fluorwasserstoffsäure und Ammoniumfluorid verwendet.
A method according to claim 10, wherein an etching liquid of said wet etching process comprises phosphoric acid.
Verfahren nach Anspruch 10, wobei eine Ätzflüssigkeit des Nassätzverfahrens Phosphorsäure umfasst.
A method according to claim 8 or 9, wherein an etching liquid of said wet etching process has a higher etching selection ratio with respect to said first nitride film (23), than with respect to said second oxidation film (25).
Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, wobei eine Ätzflüssigkeit des Nassätzverfahrens ein höheres Ätzauswahlverhältnis in Bezug auf den ersten Nitridfilm (23) als in Bezug auf den zweiten Oxidationsfilm (25) aufweist.
Wet etching process with high selectivity between Cu and Cu3Ge
Nassätzverfahren mit hoher Selektivität zwischen Cu und Cu3Ge
Wet etching process for forming an HEMT IC
Nassätzverfahren zur Bildung eines HEMT-Schaltkreises
Afterwards, the metal strip passes through a wet etching process that allows a wide range of geometries.
Das Metallband durchläuft anschließend einen Ätzprozess, der verschiedenste Geometrien zulässt.
Selected wafers then undergo a wet etching process where the surfaces are immersed in acidic (multi) and alkaline (mono) solutions to help reduce light reflection.
Die ausgewählten Wafer werden einem Ätzprozess unterzogen, bei dem die Oberflächen zur Reduzierung der Lichtreflexion in Säure- (Multi) bzw. basische Lösungen (Mono) getaucht werden.
A method as claimed in claim 1 characterised in that said step of etching said substrate (11) so as to form grooves (19) comprises a wet etching process.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Stufe des Ätzens des Substrats (11) für die Ausbildung von Nuten (19) aus einem nassen Ätzverfahren besteht.
The method as claimed in claim 12, characterized in that the step (h) comprises the step of patterning the first thin film (23) and the second thin film (24) by a wet etching process.
Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet , daß der Schritt (h) den Schritt der Mustergestaltung des ersten Dünnfilms (23) und des zweiten Dünnfilms (24) mit Hilfe eines Feuchtätzprozesses umfaßt.
A method according to any of claims 1 to 3, wherein said etching process includes a wet etching process and then a plasma dry etching process.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei der Ätzprozess einen Nassätzprozess und dann einen Plasma-Trockenätzprozess beinhaltet.
Wet etching process for making a surface grating (1) having a specified grating constant (a) on the surface of a semiconductor crystal (3).
Verfahren zur naßchemischen Herstellung eines Oberflächengitters (1) mit einer bestimmten Gitterkonstanten (a) auf der Oberfläche eines Halbleiterkristalls (3).
The advantage of the wet etching process for you as our customer is that it can be applied in batches therefore increasing the cost effectiveness.
Der Vorteil des Nassätzens für Sie als Kunden ist, dass es leicht chargenweise durchgeführt werden kann, wodurch eine enorme Kosteneffizienz entsteht.
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