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The individual devices may be interconnected in series via a patterning process to form a monolithically integrated module.
Les dispositifs individuels peuvent être interconnectés en série par un procédé de formation de motifs afin d'obtenir un module à intégration monolithique.
The first method has required a patterning process of the full stacking in a clean room, in order to elaborate the electric contacts.
La première méthode a nécessité le développement d'un procédé de structuration réalisé en salle blanche, afin d'élaborer les contacts électriques nécessaires à la mesure.
The present invention relates to an ink composition for printing capable of inking materials for an optoelectronic device and directly applying the inked materials to a patterning process.
La présente invention concerne une composition d'encre pour l'impression pouvant encrer des matériaux pour un dispositif optoélectronique et appliquer directemenr les matériaux encrés sur un processus de formation de motifs.
The at least one test structure comprises at least one pattern parameter of a predetermined value intentionally increased above a natural value of said certain parameter induced by a patterning process.
La ou les structures tests comprennent au moins un paramètre de schéma d'une valeur prédéterminée augmentée de manière intentionnelle au-dessus d'une valeur naturelle dudit certain paramètre induit par un processus de formation de schéma.
a patterning process comprises providing at least one substrate having at least one major surface
disclosed is a patterning process includes a patterning step including exposing a base to light, the base including
la présente invention se rapporte à un procédé de formation de motifs comportant une étape de formation de motifs consistant à exposer une base à de la lumière, ladite base comprenant
and partially etching the second polysilicon layer, the dielectric layer, and the first polysilicon layer by performing a patterning process.
et la gravure partielle de la seconde couche de silicium polycristallin, de la couche diélectrique, et de la première couche de silicium polycristallin par la réalisation d'un traitement de modelage des contours.
the present invention can reduce drastically costs since a patterning process can be shortened and an amount of material in a process of forming a conductive pattern can be reduced. accordingly, the present invention can be applied to manufacture a large substrate.
on peut ainsi réduire largement les coûts puisque le processus de formation de motif conducteur peut être raccourci, avec diminution correspondante de la quantité de matériau utilisée. on peut par exemple fabriquer un substrat de grande taille.
The second semiconductor film (3a) has a function of protecting the first semiconductor film (3c) from a patterning process for source/drain electrodes (5a, 5d).
Le second film mince semi-conducteur (3a) a pour fonction de protéger le premier film mince semi-conducteur (3c) d'un processus de formation de motifs pour des électrodes source et drain (5a, 5d).
The first method has required a patterning process of the full stacking in a clean room, in order to elaborate the electric contacts.
In addition, the present invention relates to the synthesis of biopolymers, e.g. DNA- sequences, peptides, carbohydrates and lipids, carried out using. a patterning process on an activated or chemically inert surface of a substrate.
De plus, la présente invention s'intéresse à la synthèse de biopolymères, par exemple des séquences ADN, des peptides, des glucides et des lipides, exécutée selon un procédé de séquencement sur la surface activée ou chimiquement inerte d'un substrat.
the synthesis of arrays of DNA probe sequences, polypeptides and the like is carried out using a patterning process on an active surface of a substrate
la synthèse de réseaux de séquences de sondes ADN, de polypeptides et analogues, que l'on effectue à l'aide d'un processus de formation de motif sur la surface active d'un substrat
The TFT active layer (24) and the pixel electrode layer (25) are formed by a same IGZO film through a patterning process.
La couche active (24) de TFT et la couche (25) d'électrodes de pixels sont formées d'un même film IGZO par un processus de création de motifs.
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Synoniemen voor a patterning process in het Engels