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an arithmetic average surface roughness

Vertaling van "an arithmetic average surface roughness" in Frans

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une rugosité de surface moyenne arithmétique
The polymerization contact surfaces of the reaction vessel have an arithmetic average surface roughness of less than 0.3 μm (12 microinches).
Les surfaces de contact de polymérisation du récipient de réaction présentent une rugosité de surface moyenne de moins de 0,3 µm (12 micropouces).
which have an arithmetic average surface roughness (ra) of a roll surface and a belt surface of 100 nm or less as a surface property.
possédant une dureté de surface moyenne arithmétique (ra) d'une surface de cylindre et d'une surface de courroie d'au plus 100 comme propriété de surface.
In this microwave plasma processing apparatus, a surface of the top plate facing a substrate W is formed to have an arithmetic average surface roughness Ra of not more than 0.2 μm.
Dans l'appareil de traitement de plasma par micro-ondes, une surface de la plaque supérieure faisant face à un substrat (W) est formée pour avoir une rugosité de surface moyenne arithmétique Ra d'un maximum de 0,2 μm.
The stainless steel sheet has an arithmetic average surface roughness Ra of 0.2 to 1.2 μm in a direction perpendicular to a rolling direction.
La feuille d'acier inoxydable a une rugosité de surface moyenne arithmétique Ra de 0,2 à 1,2 μm dans une direction perpendiculaire à une direction de laminage.
A side of the base, which is not the side facing the release agent layer, has an arithmetic average surface roughness (Ra) of 100-1800 nm.
Un côté de la base, qui n'est pas le côté dirigé vers la couche d'agent anti-adhésif, a une rugosité de surface moyenne arithmétique (Ra) de 100-1800 nm.
Preferably, the surface of the AlN crystal film has an arithmetic average surface roughness (Ra) of not more than 2 Å. The content of oxygen in the AlN crystal film is not more than 5 atomic%.
De préférence, la surface du film de cristal AlN a une rugosité de surface moyenne arithmétique (Ra) non supérieure à 2 À. La teneur en oxygène dans le film de cristal AlN n'est pas supérieure à 5 % atomique.
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