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and a pattern forming method
Vertaling van "and a pattern forming method" in Frans
et un procédé de formation de motif
et un procédé de formation de motifs
The present invention relates to a hybrid photoresist composition for improved resolution and a pattern forming method using the photoresist composition.
La présente invention concerne une composition de résine photosensible hybride pour une résolution améliorée et un procédé de formation de motifs utilisant la composition de résine photosensible.
The present invention also provides a nanoimprinting compact, a resist film, a resin mold, and a pattern forming method using the nanoimprinting composition.
La présente invention concerne également un comprimé de nano-estampage, un film de réserve, un moule à résine et un procédé de formation de motifs utilisant la composition de nano-estampage.
a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; and a solvent, and a pattern forming method uses the positive photosensitive composition.
un composé pouvant générer un acide par irradiation avec des rayons actiniques ou un rayonnement; et un solvant; et un procédé de formation de motif qui utilise la composition photosensible positive.
a resist composition and a pattern forming method using the composition are provided, the resist composition including
l'invention porte sur une composition de réserve et sur un procédé qui utilise la composition pour former un motif, la composition de réserve comprenant
and a pattern forming device provided with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material
un dispositif de formation de motif prévu avec le matériau de formation de motif. ainsi qu'un procédé de formation de motif utilisant le matériau de formation de motif
aliphatic basic compound and an anionic surfactant, an antistatic film, a coated article and a pattern forming method using such antistatic treatment agent
et un tensioactif anionique, un film antistatique, un article enduit et un procédé de formation de motifs utilisant ledit agent de traitement antistatique
Provided are: a curable composition for optical imprinting, which has excellent inkjet aptitude and mold releasability; and a pattern forming method.
L'invention concerne : une composition durcissable pour impression optique, qui a une excellente aptitude au jet d'encre et une excellente aptitude au démoulage ; et un procédé de formation de motif.
The present invention relates to a composition for a resist underlayer film including a polymer represented by chemical formula 1 and a solvent, and a pattern forming method using the composition for the resist underlayer film.
La présente invention concerne une composition pour un film de sous-couche de réserve comprenant un polymère représenté par la formule chimique 1 et un solvant, et un procédé de formation de motif utilisant la composition pour le film de sous-couche de réserve.
The present invention relates to a near-infrared (NIR) film composition for use in vertical alignment and correction in the patterning of integrated semiconductor wafers and a pattern forming method using the composition.
La présente invention concerne une composition de film absorbant l'infrarouge proche (NIR) devant être utilisée dans l'alignement vertical et la correction lors de la configuration de tranches semi-conductrices intégrées, ainsi qu'un procédé de formation de motifs à l'aide de la composition.
[Problem] To provide a composition for forming a tungsten oxide film from an aqueous solution and a pattern forming method using the composition.
L'invention a pour but de proposer une composition de formation d'un film d'oxyde de tungstène à partir d'une solution aqueuse et d'un procédé de formation d'un motif à l'aide de la composition.
ETCHING PASTE, A PRODUCTION METHOD THEREFOR AND A PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
PÂTE D'ATTAQUE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELLE-CI ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS L'UTILISANT
Woord & uitdrukking van de dag
Afbeelding van de dag
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