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cleaning method for removing
Vertaling van "cleaning method for removing" in Frans
procédé de nettoyage permettant d'éliminer
substrate cleaning method for removing oxide film
procédé de nettoyage de substrat destiné à éliminer un film d'oxyde
Furthermore, the present invention relates to a downhole system and a cleaning method for removing residues or precipitation solids on an inner face of a casing or liner.
De plus, la présente invention concerne un système de fond et un procédé de nettoyage pour retirer les résidus ou les solides de précipitation sur une face interne d'un cuvelage ou chemisage.
a plasma cleaning method for removing residues in a plasma process chamber
procédé de nettoyage au plasma permettant d'extraire des résidus contenus dans une enceinte de traitement au plasma
cleaning method for removing deposits containing magnetite out of a pressure vessel of a power plant
procédé de nettoyage permettant d'éliminer les dépôts contenant de la magnétite d'une cuve sous pression d'une centrale électrique
A cleaning method for removing solid deposits of the oxides of nitrogen, especially dinitrogen pentoxide, from ozone generator tubes and dielectrics is described.
L'invention concerne un procédé de nettoyage destiné à éliminer les dépôts solides d'oxyde d'azote, notamment du pentoxyde de diazote, des tubes et des diélectriques d'un générateur d'ozone.
Provided is a substrate cleaning method for removing particles at a high removing efficiency from a substrate to be treated, while remarkably suppressing damages of a wiring pattern.
La présente invention concerne un procédé de nettoyage de substrat qui permet d'éliminer avec un degré élevé d'efficacité des particules du substrat à traiter, tandis que sont supprimés de manière remarquable les dommages d'un motif de câblage.
the present invention relates to an improved remote plasma cleaning method for removing surface deposits from a surface, such as the interior of a deposition chamber that is used in fabricating electronic devices
l'invention concerne un procédé amélioré de nettoyage au plasma à distance qui permet d'éliminer les dépôts superficiels d'une surface, telle que l'intérieure d'une chambre de dépôt utilisée dans la fabrication de dispositifs électroniques
A cleaning method for removing deposition such as scale adhering to the surface of a structure and a structure using this are disclosed.
L'invention concerne un procédé de nettoyage permettant d'éliminer un dépôt tel que le tartre adhérant à la surface d'une structure, ainsi qu'une structure mettant en oeuvre ce procédé.
a plasma cleaning method for removing residues previously formed in a plasma treatment chamber by dry etching layers such as photoresist, barriers, etc., on a wafer
méthode de nettoyage du plasma permettant d'extraire les impuretés formées dans une chambre de traitement de plasma lors de l'attaque à sec de couches telles que des couches photorésistantes, des couches d'arrêt, etc., sur une plaquette
a cleaning method for removing fats, oils, and silicon small particles, which are conventionally difficult to remove, adhering to devices and carriers used to manufacture a semiconductor wafer or a semiconductor device
un procédé de nettoyage servant à éliminer les matières grasses, les matières huileuses et les petites particules de silicone, habituellement difficiles à éliminer, adhérant aux dispositifs et aux supports utilisés dans la fabrication de plaquettes semi-conductrices ou de dispositifs semi-conducteurs
cleaning method for removing starch
procédé d'épuration destiné à l'élimination d'amidon
CLEANING METHOD FOR REMOVING POST VIA ETCH RESIDUE
PROCÉDÉ DE NETTOYAGE POUR ENLEVER LE RÉSIDU POST-GRAVURE DE VIA
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