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arrêt de gravure de contact
contact d'arrêt à la gravure
a field effect transistor having a stressed contact etch stop layer with reduced conformality
transistor à effet de champ comportant une couche d'arrêt de gravure de contact contrainte moins conforme
a problem of effect reduction of a contact etch stop film method due to further microminiaturization is solved
résoudre un problème de réduction d'effet d'un procédé à film d'arrêt de gravure de contact provoqué par une microminiaturisation supplémentaire
since warpage can be generated by a method different from the contact etch stop film method, by using the beam
étant donné qu'un gauchissement peut être généré par un procédé différent du procédé à film d'arrêt de gravure de contact, par l'utilisation de la poutre
By forming a highly non-conformal stressed overlayer, such as a contact etch stop layer, the efficiency of the stress transfer into the respective channel region of a field effect transistor (100) may be significantly increased.
En réalisant une surcouche contrainte non conforme, comme une couche d'arrêt de gravure de contact, l'efficacité du transfert de contrainte dans la zone de canal respective d'un transistor à effet de champ (100) peut être augmentée significativement.
The method comprises etching the contact etch stop layer (CESL) which occurs at different rates on the two different CESL types thus allowing the device type to be determined by examining how much non-etched material is left.
Le procédé comprend la gravure de la couche d'arrêt de gravure de contact (CESL), qui se produit à différentes vitesses sur les deux différents types de CESL, pour ainsi déterminer le type du dispositif par examen de la quantité de matériau non gravé restant.
The semiconductor wafer also includes an inter-layer dielectric (ILD) layer (108) formed on a contact etch stop layer (132), separating the ILD layer from the STI layer pad on the surface of the semiconductor substrate.
La tranche de semi-conducteur comprend également une couche de diélectrique intermédiaire (ILD) (108), formée sur une couche d'arrêt de gravure de contact (132), qui sépare la couche ILD et le tampon de couche STI sur la surface du substrat semi-conducteur.
A FIELD EFFECT TRANSISTOR HAVING A STRESSED CONTACT ETCH STOP LAYER WITH REDUCED CONFORMALITY
TRANSISTOR À EFFET DE CHAMP COMPORTANT UNE COUCHE D'ARRÊT DE GRAVURE DE CONTACT CONTRAINTE MOINS CONFORME
semiconductor device fabricated using a carbon-containing film as a contact etch stop layer
dispositif en semiconducteur fabriqué à l'aide d'un film au carbone servant de couche de contact d'arrêt à la gravure
High quality nitride films formed by the instant process are particularly suited for front-end applications such as the formation of spacer structures and the formation of contact etch stop layers.
Les couches de nitrure de haute qualité formées au moyen du procédé instantané sont particulièrement appropriées pour des applications frontales telles que la formation de structures d'espacement et la formation de couches d'arrêt d'attaque chimique par contact.
SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATED USING A CARBON-CONTAINING FILM AS A CONTACT ETCH STOP LAYER
DISPOSITIF EN SEMICONDUCTEUR FABRIQUE A L'AIDE D'UN FILM AU CARBONE SERVANT DE COUCHE DE CONTACT D'ARRET A LA GRAVURE
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