Vertaling van "dielectric etch stop layer" in Frans
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couche d'arrêt de gravure diélectrique
couche d'arrêt de gravure de diélectrique
methods to selectively form a dielectric etch stop layer over a patterned metal feature
The dielectric etch stop layer is removed either from above the bonding pads only, or from above both the bonding pads and the fusible links.
La couche d'arrêt de gravure diélectrique est retirée soit à partir du dessus des aires de soudure uniquement, soit à partir du dessus des aires de soudure et des éléments fusibles.
A substrate having a dielectric etch stop layer, a chacolgenide layer, an anti-reflective layer and a mask layer is placed in a vacuum chamber having a high density plasma source.
Un substrat présentant une couche d'arrêt de gravure diélectrique, une couche de chalcogénure, une couche antireflet et une couche de masque est placé dans une chambre de vide dotée d'une source de plasma à haute densité.
when a contact is etched through the third dielectric, this selective etch stops on the dielectric etch stop layer
in a first preferred embodiment of the present invention, conductive features are formed on a first dielectric etch stop layer, and a second dielectric material is deposited over and between the conductive features
un premier mode de réalisation préféré de l'invention comporte les étapes consistant à former des caractéristiques conductrices sur une première couche d'arrêt de gravure de diélectrique; et déposer une deuxième matière diélectrique sur et entre les caractéristiques conductrices
after patterning the final metal (aluminum) layer to form the fusible links and the bonding pads, a dielectric etch stop layer is formed over the final metal layer before a passivation layer is deposited
après la structuration de la couche métallique (aluminium) finale permettant de former les éléments fusibles et les aires de soudure, une couche d'arrêt de gravure diélectrique est formée sur la couche métallique finale avant le dépôt d'une couche de passivation
a via etch to the conductive features which is selective between the first and second dielectrics will stop on the dielectric etch stop layer, limiting overetch
la gravure de trous d'interconnexions aboutissant aux caractéristiques conductrices, sélective entre la première et la deuxième couche diélectrique, s'arrête à la couche d'arrêt de gravure de diélectrique de manière à limiter une gravure excessive
At least one chlorine containing gas, such as a mixture of BCl3 and Cl2, is introduced into the vacuum chamber for etching the chalcogenide layer and the anti-reflective layer to the dielectric etch stop layer.
Au moins un gaz contenant du chlore, tel qu'un mélange de BCl3 et Cl2, est introduit dans la chambre de vide afin de graver la couche de chalcogénure et la couche antireflet sur la couche d'arrêt de gravure diélectrique.
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