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first line width
Vertaling van "first line width" in Frans
première largeur de ligne
première largeur de trait
The photoresist is removed, thereby forming a first barrier signal trace having a first line width.
Le photorésist est enlevé, ce qui permet de former une première trace du signal de barrière présentant une première largeur de ligne.
The photoresist is removed forming a second signal trace in overlying relationship with the first barrier signal trace and having a second line width greater than the first line width.
Le photorésist est retiré, ce qui permet de former une deuxième trace du signal superposée à la première trace du signal de barrière et d'obtenir une deuxième largeur de ligne supérieure à la première largeur de ligne.
The method further includes repeating the formation and removal of the oxide, nitride, or oxynitride film to form a second pattern having a second line width that is smaller than the first line width of the initial pattern.
Le procédé consiste en outre à répéter la formation et le retrait du film d'oxyde, de nitrure, ou d'oxynitrure pour former un second motif présentant une seconde largeur de ligne inférieure à la première largeur de ligne du motif initial.
a pattern forming method includes a step of preparing a processing object having silicon whereupon an initial pattern having a first line width is formed
un procédé de formation de motif comprend une étape de préparation d'un objet de traitement ayant du silicium, sur lequel un motif initial ayant une première largeur de ligne est formé
the silicon oxide film formation and the silicon oxide film removal are repeatedly performed, and a target pattern having a second line width finer than the first line width is formed on the processing object.
la formation du film d'oxyde de silicium et le retrait du film d'oxyde de silicium sont effectués de façon répétée, et un motif cible ayant une seconde largeur de ligne plus fine que la première largeur de ligne est formé sur l'objet de traitement.
The method includes forming a patterned mask layer on a first layer, where the patterned mask layer has a first line width.
Ce procédé consiste à former une couche de masque à motifs sur une première couche, la couche de masque à motifs présentant une première largeur de trait.
After removing a portion of the patterned mask so that the patterned mask layer has a second line width less than the first line width, the first layer can be etched again to form a second plurality of sloped sidewalls.
Après retrait d'une partie du masque à motifs, tel que ledit masque présente une second largeur de trait qui soit inférieure à la première largeur de trait, on peut attaquer une nouvelle fois la première couche de manière à former une seconde pluralité de plans inclinés.
Synoniemen voor first line width in het Engels
Woord & uitdrukking van de dag
Afbeelding van de dag
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