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lithography system and method
Vertaling van "lithography system and method" in Frans
SYSTÈME DE LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ
lithography system and method for device manufacture
système lithographique et procédé de fabrication de dispositifs
an electron beam lithography system and method for directly writing onto writing fields provided on a wafer
un système et un procédé d'électrolithogravure par faisceau d'électrons, qui permet d'écrire directement sur des champs d'écriture disposés sur une plaquette
a particle beam lithography system and method of blanking a beam such as a particle or other beam
un système de lithographie à faisceau de particules et un procédé de suppression d'un faisceau, tel qu'une particule ou un autre faisceau
a maskless lithography system and method to expose a pattern on a wafer by propagating a photon beam through a waveguide on a substrate in a plane parallel to a top surface of the wafer.
un système et un procédé de lithographie sans masque permettant d'exposer un motif sur une tranche par propagation d'un faisceau photonique à travers un guide d'ondes sur un substrat, dans un plan parallèle à une surface supérieure de la tranche.
A lithography system and method for cost-effective device manufacture that can employ a new 'flash-on-the-fly' mode of operation is disclosed, wherein exposure fields are formed with single pulses of radiation.
L'invention concerne un système lithographique ainsi qu'un procédé de fabrication de dispositifs à moindres frais pouvant utiliser un nouveau mode de fonctionnement de type 'flash à la volée', des champs d'exposition étant formés au moyen d'impulsions simples de rayonnement.
IMPRINT LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD
SYSTÈME ET PROCÉDÉ D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE
LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD OF REFRACTING
SYSTÈME DE LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ DE RÉFRACTION
MASKED ION BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD
PROCEDE ET SYSTEME DE LITHOGRAPHIE PAR FAISCEAU IONIQUE MASQUE
IMPRINT LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD FOR MANUFACTURING
SYSTÈME DE LITHOGRAPHIE PAR IMPRESSION ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD FOR STORING POSITIONAL DATA OF A TARGET
SYSTÈME DE LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ POUR STOCKER DES DONNÉES DE POSITION D'UNE CIBLE
MASK FOR EUV LITHOGRAPHY, EUV LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD FOR OPTIMISING THE IMAGING OF A MASK
MASQUE POUR UNE LITHOGRAPHIE PAR ULTRAVIOLETS EXTRÊMES, SYSTÈME DE LITHOGRAPHIE PAR ULTRAVIOLETS EXTRÊMES ET PROCÉDÉ POUR OPTIMISER L'IMAGERIE D'UN MASQUE
INTERFEROMETRIC LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD USED TO GENERATE EQUAL PATH LENGTHS OF INTERFERING BEAMS
SYSTEME DE LITHOGRAPHIE INTERFEROMETRIQUE ET PROCEDE D'OBTENTION DE FAISCEAUX INTERFERANTS DE LONGUEUR DE TRAJET DE PROPAGATION EGALE
IMMERSION LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD HAVING AN IMMERSION FLUID CONFINEMENT PLATE FOR SUBMERGING THE SUBSTRATE TO BE IMAGED IN IMMERSION FLUID
SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE LITHOGRAPHIE PAR IMMERSION COMPORTANT UNE PLAQUE DE CONFINEMENT DE FLUIDE D'IMMERSION POUR SUBMERGER LE SUBSTRAT À TRAITER EN TANT QU'IMAGE DANS UN FLUIDE D'IMMERSION
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