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method for forming a pattern
Vertaling van "method for forming a pattern" in Frans
procédé pour former un motif
procédé de formation de motif
procédé de formation d'un motif
procédé pour former un modèle
procédé de traçage d'un motif
procédé servant à former une impression
The present invention relates to a method for forming a pattern without the etching step, and a pattern structure formed thereby.
La présente invention concerne un procédé pour former un motif sans étape de gravure chimique, et une structure de motif formée ainsi.
The method for forming a pattern is characterized by comprising at least a step wherein the photosensitive layer of the photosensitive film is exposed to light.
Le procédé pour former un motif est caractérisé par le fait qu'il comprend au moins une étape dans laquelle la couche photosensible du film photosensible est exposée à de la lumière.
Also disclosed is a method for forming a pattern by using the composition.
Un procédé de formation de motif utilisant la composition est également présenté.
Provided are a compound containing an aromatic ring for a resist underlayer, a resist underlayer composition including same, and a method for forming a pattern of a device using same.
L'invention concerne un composé contenant un noyau aromatique pour une sous-couche de réserve, une composition de sous-couche de réserve le contenant, ainsi qu'un procédé de formation de motif de dispositif au moyen de cette composition.
Also disclosed are a photosensitive film, a method for forming a pattern using the photosensitive film, and a printed board.
L'invention concerne également un film photosensible, un procédé pour former un motif à l'aide du film photosensible, et une carte de circuits imprimés.
Disclosed are a polymer for coating a photoresist pattern, which can improve the resolution of a lithography process, and a method for forming a pattern of a semiconductor device using the polymer.
L'invention concerne un polymère pour revêtir un motif de photorésine, qui peut améliorer la résolution d'un procédé de lithographie, ainsi qu'un procédé pour former un motif d'un dispositif à semi-conducteurs au moyen du polymère.
disclosed is a method for forming a pattern, wherein a pattern having a size larger than the exposure limit (resolution limit) of a current exposure light source can be formed on a surface to be processed
l'invention porte sur un procédé pour former un motif, un motif ayant une dimension supérieure à la limite d'exposition (limite de résolution) d'une source de lumière d'exposition actuelle pouvant être formé sur une surface devant être traitée
METHOD FOR FORMING A PATTERN ON A SUBSTRATE AND ELECTRONIC DEVICE FORMED THEREBY
PROCÉDÉ POUR FORMER UN MOTIF SUR UN SUBSTRAT ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE AINSI FORMÉ
COMPOUND CONTAINING AN AROMATIC RING FOR A RESIST UNDERLAYER, RESIST UNDERLAYER COMPOSITION INCLUDING SAME, AND METHOD FOR FORMING A PATTERN OF A DEVICE USING SAME
COMPOSÉ CONTENANT UN NOYAU AROMATIQUE POUR UNE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE, COMPOSITION DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE LE CONTENANT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE DISPOSITIF AU MOYEN DE CETTE COMPOSITION
Also disclosed is a method for forming a pattern using such a composition.
Il est également exposé un procédé servant à former une impression utilisant une telle composition.
and a method for forming a pattern by using the composition.
et un procédé de traçage d'un motif au moyen de la composition.
Also disclosed are a method for forming a pattern and a permanent pattern.
Il est également exposé un procédé servant à former une impression et une impression permanente.
Also specifically disclosed is a method for forming a pattern, which uses the composition.
L'invention porte également, de façon spécifique, sur un procédé de formation d'un motif qui utilise la composition.
Woord & uitdrukking van de dag
Afbeelding van de dag
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