Download for Windows Premium
Inschrijven Aanmelden met Google Aanmelden met Apple
Reverso Premium
Publiciteit
method for pattern formation

Vertaling van "method for pattern formation" in Frans

We konden deze vermelding niet vinden. Er worden benaderende resultaten weergegeven. Controleer je spelling of stel voor deze term aan het woordenboek toe te voegen.
procédé de formation de motif
procédé de création de motif
procédé de formation de structure
PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS
The method for pattern formation comprises forming an upper surface antireflection film using the composition for upper surface antireflection film formation.
Le procédé de formation de motif consiste à former un film antireflet de surface supérieure en utilisant la composition pour formation de film antireflet de surface supérieure.
cyclic fluorine compounds, polymerizable fluoromonomers, fluoropolymers, and resist materials containing the fluoropolymers and method for pattern formation
composés fluor cycliques, fluoromonomères polymérisables, fluoropolymères, matériaux de résine contenant ces fluoropolymères et procédé de formation de motif
this invention provides a method for pattern formation which is advantageous in that
l'invention propose un procédé de création de motif qui est avantageux en ce sens que
the method for pattern formation is characterized by comprising the steps of forming a first pattern on a substrate using a composition for first-resist layer formation
le procédé de création de motif est caractérisé en ce qu'il comporte les étapes consistant à créer un premier motif sur un substrat en utilisant une composition de création de première couche de réserve
There are also provided a method for pattern formation, using the resist underlayer film forming composition, and a method for manufacturing a semiconductor device, using the method for pattern formation.
La présente invention concerne également un procédé de formation de structure, utilisant la composition destinée à former un film de sous-couche de résine, et un procédé de fabrication d'un dispositif semi-conducteur, utilisant le procédé de formation de structure.
further, the method for pattern formation by using the fluoropolymers is suitable for the formation of high-resolution patterns.
par ailleurs, ce procédé de formation de motif par utilisation de fluoropolymère convient pour la formation de motif de haute résolution.
method for resist lower layer film formation, composition for resist lower layer film for use in the method, and method for pattern formation
procédé de formation de film de couche inférieure de résist, composition de film de couche inférieure de résist pour une utilisation dans le procédé, et procédé de formation de motif.
the invention also discloses polymerizable fluoro-monomers derived from the above compounds; fluoropolymers obtained by polymerization or copolymerization of the above compounds or fluoromonomers; resist materials containing the fluoropolymers; and a method for pattern formation by using the fluoropolymers
cette invention concerne aussi des fluoropolymères dérivés des composés susmentionnés, des fluoropolymères obtenus par polymérisation ou par copolymérisation des composés susmentionnés ou de fluoromonomères, des matériaux de résine contenant ces fluoropolymères et un procédé de formation de motif par utilisation de ces fluoropolymères
in the range of t2-60 <= t1 <= t2, a process and apparatus for producing the composite silver nanopaste, a joining method, and a method for pattern formation
comprise dans la plage de t2-60 <= t1 <= t2, un processus et un appareil de production de la nanopâte d'argent composite, un procédé de liaison, et un procédé de formation de motif
METHOD FOR PATTERN FORMATION AND SHADOW MASK
PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET MASQUE PERFORÉ
METHOD FOR PATTERN FORMATION, AND RESIST COMPOSITION, DEVELOPING SOLUTION AND RINSING LIQUID FOR USE IN THE METHOD FOR PATTERN FORMATION
PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET COMPOSITION DE RÉSIST, SOLUTION DE DÉVELOPPEMENT ET LIQUIDE DE RINÇAGE À UTILISER DANS LE PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
film forming composition for nanoimprinting and method for pattern formation
composition filmogène pour la nanoimpression et procédé de traçage de motif
This invention provides a positive-working resist composition, which can simultaneously realize high levels of exposure latitude, focus margin and pattern falling properties and further has reduced development defects, and a method for pattern formation.
La présente invention porte sur une composition de résist positive qui peut simultanément permettre d'obtenir des niveaux élevés de propriétés de latitude d'exposition, de marge de focalisation et d'affaissement de motif et dont les défauts de développement sont réduits.
Er zijn geen resultaten gevonden voor deze term.
Woord & uitdrukking van de dag
Afbeelding van de dag
lighter: device producing a flame for lighting things
Ontdek het woord
lighter
Publiciteit

Suggesties

method for resist pattern formation

Resultaten: 19. Exact: 19. Verstreken tijd: 65 ms.